株式会社　アルバック 研究開発活動 (2017年6月期)

当社グループは、真空技術を応用した次世代・最先端の分野における研究開発活動を経営の重要な柱に位置付けており、当連結会計年度における研究開発活動は、当社を中心として以下のとおり実施いたしております。
国内外の各開発拠点において競合他社に先駆けた独創的な新技術の開発、積極的な応用技術の開発を行っております。
今後成長が見込まれる「情報の高度化」分野、「省エネ・創エネ」分野においては、重要領域を定め重点的な開発投資を行うことで、スピードを重視した開発を進めております。
当連結会計年度における研究開発費の総額は68億91百万円となり、セグメントごとに研究開発活動の成果を示すと次のとおりであります。

(真空機器事業)
当社の事業の柱であるフラットパネルディスプレイ(FPD)や半導体、高機能電子デバイス用装置などの電子デバイスの各分野に開発投資を行い、新製品や新技術を創出、受注にも貢献しております。
また、真空ポンプや真空計測機器等各種のコンポーネント分野へも開発投資を行っております。
当セグメントに係る研究開発費は64億85百万円となり、代表的な成果は次のとおりであります。

(1)FPD製造装置
液晶ディスプレイ及び有機ELディスプレイ、フレキシブルディスプレイなどの分野における次世代技術への開発投資を行っております。
モバイル端末用高精細ディスプレイを生産する有機EL製造装置では、量産に向けた大型基板(G6ハーフ)に対応した真空蒸着装置を開発し、市場に投入しております。
高精細大型TV用液晶ディスプレイ製造装置分野では、世界最大のG10.5基板に対応した新型スパッタリング装置及びターゲットを開発し、顧客工場への納入を開始いたしました。

(2)半導体及び電子部品製造装置
3次元NANDフラッシュメモリに続く次世代不揮発性メモリ用製造装置では、成膜性能の向上や新プロセスを実現させるモジュールを開発し、市場に投入しております。
高密度実装分野では、処理面積を拡大し、生産性を大幅に改善するPLP(Panel Level Packaging)向け「エッチング装置NA-1500」を開発、販売を開始いたしました。
また、パワーデバイス向けには、IGBT向け低加速・高濃度対応イオン注入装置「SOPHI-30」と高加速対応イオン注入装置「SOPHI-400」の2機種を開発、販売を開始し、既存の機種と合わせてパワーデバイス向けイオン注入装置のラインナップを大幅に充実させました。

(3)コンポーネント
真空ポンプなど、各種真空関連機器の開発を行っております。真空装置に使用する各種電源の開発も進めており、DC電源やRF電源、EB電源等のラインナップを充実させております。
また、有機EL製造装置用の防振型クライオポンプを開発し、市場に投入しております。

(真空応用事業)
ナノテクノロジーやエネルギー及び環境に関連する先端材料、表面分析機器などの開発を行っております。
当セグメントに係る研究開発費は4億5百万円となり、代表的な成果としましては、2つの異なるエネルギー線源を搭載し、広範囲の測定を可能とした走査型デュアルX線光電子分光分析装置(XPS)「PHI Quantes」を開発、販売を開始いたしました。