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有価証券報告書 抜粋　ドキュメント番号: S100GC30

有価証券報告書抜粋 株式会社ヒラノテクシード 沿革 (2019年3月期)

提出会社の経営指標等メニュー事業の内容

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1935年6月大阪府南河内郡加美村(現在大阪市平野区)に平野金属合資会社を創業。
1939年3月「熱と風」の理論と探究から応用技術を生かした熱風乾燥機、輸送機器、化学機器等の設計、製造、販売を行う。
1947年4月染色仕上関係機器に重点を置いた各種乾燥機を開発。
1957年3月平野興産株式会社に吸収合併され、同時に平野金属株式会社に商号変更(平野興産株式会社は1956年3月設立)。
1961年9月株式の券面額変更のため太平金属株式会社に吸収合併され、同時に平野金属株式会社に商号変更(太平金属株式会社は1949年7月設立)。
1962年4月大阪証券取引所市場第二部に上場。
1964年4月輸出貢献企業として通商産業省(現 経済産業省)より表彰される。
1970年8月奈良工場(現在の本社工場)建設に着手。
1973年6月「ヒラノテクニカム」を設置し、コーティング、ラミネーティングなどの加工実験を行い得る設備が完成。
1976年11月繊維部門で溶剤精練仕上装置が財団法人機械振興協会賞を受ける。
1978年6月ヒラノ技研工業株式会社(現連結子会社)を設立。
1981年7月繊維機械の新機種シンプレックステンターが優秀省エネルギー機器表彰を受賞し、通商産業省(現 経済産業省)より省エネルギー税制優遇措置適用機種となる。
1983年9月集中コンピューター・コントロールシステムを開発し、巻出しから塗工、乾燥、巻取りに至る一連の装置に対し、集中指令、集中管理を行う新システムを確立。
1987年6月株式会社ヒラノエンテック(現株式会社ヒラノK&E(現連結子会社))を設立。
1987年10月光音電気株式会社(現株式会社ヒラノK&E(現連結子会社))を買収。
1988年4月株主割当による増資を行い資本金は560,000千円から1,053,026千円となる。
1989年1月社名変更を行い、平野金属株式会社から株式会社ヒラノテクシードとなる。
1990年3月新鋭「ヒラノテクニカム(研究及び実験施設)」竣工。
1990年11月スイス・フラン建転換社債の転換により資本金は1,847,822千円となる。
1998年4月国際標準化機構(ISO)の品質マネジメントシステム「ISO9001」の認証を取得。
2001年11月中厚セラミックシート成形テスト機「M-600SF」をテクニカムに設置。
2001年12月第5世代LCD用「新型 Capillary Coater」を開発。
2002年3月有機EL発光層成膜プロセスを開発。
2002年12月耐環境膜の薄膜コーティング技術を開発。
2009年12月高精度のリチウムイオン電池電極塗工装置「R-800DB」をテクニカムに設置。
2013年7月東京証券取引所と大阪証券取引所の市場統合に伴い、東京証券取引所市場第二部へ上場。
2014年3月

2016年6月		ヒラノ光音株式会社(現株式会社ヒラノK&E(現連結子会社))の本社及び工場を当社敷地内に新築移転。
監査等委員会設置会社に移行。
2017年4月ヒラノ光音株式会社と株式会社ヒラノエンテックは、ヒラノ光音株式会社を存続会社として合併、株式会社ヒラノK&Eに商号変更。
2017年6月国際標準化機構(ISO)の環境マネジメントシステム「ISO14001」の認証を取得。
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このコンテンツは、EDINET閲覧（提出）サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E01548] S100GC30)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート（以下、本レポート）です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
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