株式会社ヒラノテクシード 研究開発活動 (2021年3月期)

当社の製品である、塗工・成膜設備は、連続生産性に優れる特徴があり、近年、目標とされている持続可能な社会の実現のためにも、環境負荷の軽減に貢献できることから、広い産業分野で活用されております。
当社グループでは、当社グループのトータルコンセプトである「人と技術と未来を創る」を基本理念として、開発部門、設計部門、製造部門が連携し、ユーザーニーズである生産設備の高速化、広幅化、高精度化からなる未来を創る技術を磨いてまいりました。
当社グループ各社では、ユーザーの生産現場に直結した加工プロセスの実証確認と課題の改善を共通のテーマとして、実験設備「テクニカム」に、各社の市場に合わせ、複数の設備技術の開発機、及び試料の構造を可視化する走査電子顕微鏡(SEM)や液体材料の物性を数値化する表面張力計などの精密計測機器を整備しております。
このテクニカムでは、ユーザーばかりでなく、大学などの研究機関からの試作実験や共同開発に活用頂いております。
新型コロナウイルスの世界的な感染拡大に伴い、生産現場のグローバル化は地産地消へと向かいつつあります。世界中のどの工場でも同じ条件で生産でき、作業者のスキルに頼らないワンボタンオペレーションを実現するため、操作の自動化と操業状態の監視のため、リモート技術の進化が必要となります。
当社では、機械操作のリモート操作と数値管理化への取組みを進めており、ユーザーに納入した機械設備の予知保全技術開発は実用段階に到達いたしました。
さらに、製品の差別化と安定供給を目指し、コア部品である、高精度ロールとスロットダイの内作化に取組み、技術と生産ノウハウの蓄積を進めております。
また、グループ会社のヒラノ技研工業株式会社では、従来に比べ加圧力を増した高圧プレステスト装置を開発し顧客テストを開始しました。
株式会社ヒラノK&Eでは、独自の技術である連続型スパッタ装置の幅広い用途展開にむけ、複数成膜源対応、複数前処理源対応、両面成膜などの高機能対応に加え、低価格帯の普及型設備も開発しております。

当社グループでは、基礎技術研究、製品開発の中から産まれた新技術や成果の知財化を進めており、当社グループの前年度期末時点での保有特許は129件となっております。

現在、研究開発活動は当社の設計部商品開発課、機械部技術課及び連結子会社であるヒラノ技研工業株式会社、株式会社ヒラノK&Eの技術担当を含む合計約30名、総社員の1割に当る要員で業務の対応に努めております。
当連結会計年度におけるグループ全体の研究開発費は、321,526千円となっております。

(塗工機関連機器)
塗工機械分野では、EV用リチウムイオン二次電池のニーズ拡大により、電極塗工装置の高速生産及び高性能化ニーズが高まっており、多層同時塗工、両面同時塗工技術等の開発に加え、より薄く取扱いが難しい金属箔の安定走行技術、熱風と赤外線による乾燥制御技術でも高い評価を得ております。
ディスプレイの薄型化やフレキシブル化に寄与する光学機能性フィルムの各種塗工プロセス設備では、広幅フィルムの安定走行技術、高い塗膜精度と、電子材料分野で培ったクリーン化技術に更なる進化を進めております。
当部門に係わる研究開発費は、179,194千円となっております。

(化工機関連機器)
化工機械分野では、EVや安全運転サポート車に搭載される電子機器の増大により、益々、電子材料の高性能化と高集積化が進んでおります。
薄物から厚物まで幅広い範囲の積層セラミックコンデンサー用セラミックシート成型機に求められる高い膜厚精度と、乾燥制御技術、成膜プロセスのクリーン化技術開発を継続し市場をリードしております。
プリント基板材料分野では搬送・高温加圧・貼合技術に改善を加え、電子機器の小型化に寄与する薄物、高集積積層基板の実用化に貢献致しました。
当社グループでは、透明ポリイミドフィルムの成膜技術開発、炭素繊維等のシート成形、高温延伸機、高温熱処理装置、連続スパッタ装置など次世代を担う材料に対応する設備開発を進めてまいります。
当部門に係わる研究開発費は、142,332千円となっております。