株式会社昭和真空 研究開発活動 (2014年3月期)

当社グループは真空技術をベースに、メカトロニクス・薄膜形成技術等の先端技術により、特に情報通信分野に適合した新製品の開発に注力しております。
当社グループの研究開発は要素技術、装置開発、プロセス開発を技術開発部が担当しております。一部門で行うことで、要素開発・装置開発とプロセスを直結し、開発効率を上げ、市場要望に対応した開発を図っております。また、重点開発には、これら基盤技術ならびに装置開発について、市場要請に迅速に対応するため、技術部門を中心としたメンバーから構成される社内横断的プロジェクト制を導入して、速やかに研究開発を推進しております。
当連結会計年度における研究開発活動は次のとおりです。

水晶デバイス装置
タブレットPC・スマートフォン・自動車等に広く用いられている水晶振動子部品の分野におきまして、高精度を保ちながら、小型水晶パッケージに対応し、処理効率を改善することで、1個当たりの処理エネルギーを当社比2/3を達成した周波数調整装置の販売を開始いたしました。また、更なる小型素子に対応する装置開発を開始しています。

光学装置
スマートフォン等に搭載されているカメラモジュール等の光学部品分野における光学薄膜形成用真空蒸着装置におきまして、高品質の膜質を提供する蒸着装置として改良を加え、低価格のAR専用蒸着装置、量産型フィルタ用光学蒸着装置を新たに開発いたしました。また、自社開発したイオンソースを搭載し、プラズマ技術と成膜の融合を進めています。

電子部品・その他装置
ワンセグやGPS機能を付加したスマートフォン等に用いられている電子部品分野向けの高精度薄膜形成装置や高性能ドライエッチング装置の開発を継続して実施しております。また、LED業界向けに新たなプロセスとしてALDを採用した色調調整装置、バリア膜形成装置を開発、さらに光学薄膜技術の応用としてDBR成膜装置を開発し、それぞれ販売を開始いたしました。

当連結会計年度における研究開発費の総額は、2億62百万円となっております。