有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S1002F08
信越化学工業株式会社 沿革 (2014年3月期)
1926年9月 | 信濃電気株式会社と日本窒素肥料株式会社との共同出資により、信越窒素肥料株式会社として発足 |
1927年11月 | 新潟県中頸城郡(現上越市)に直江津工場を建設、石灰窒素の製造開始 |
1938年12月 | 群馬県安中市に磯部工場を建設、金属マンガンの製造開始 |
1940年3月 | 社名を信越化学工業株式会社に変更 |
1945年5月 | 大同化学工業株式会社を吸収合併し、福井県武生市(現越前市)の同社工場を当社武生工場として石灰窒素等の製造開始 |
1949年5月 | 東京証券取引所に株式を上場 |
1953年10月 | 磯部工場において珪素樹脂(シリコーン)の製造開始 |
1957年3月 | 直江津工場においてアセチレン法による塩化ビニル、か性ソーダの製造開始 |
1959年4月 | 直江津工場において天然ガス塩素化製品の製造開始 |
1960年7月 | 磯部工場において半導体シリコンの製造開始 |
1960年9月 | 信越ポリマー株式会社(合成樹脂の加工 現連結子会社)を設立 |
1962年3月 | 直江津工場においてセルロース誘導体(メトローズ等)の製造開始 |
1962年12月 | 信越協同建設株式会社(現信越アステック株式会社 土木、建設、運輸業等 現連結子会社)を設立 |
1964年8月 | 長野電子工業株式会社(半導体シリコンの加工 現連結子会社)を設立 |
1967年3月 | 信越半導体株式会社(半導体シリコンの製造 現連結子会社)を設立 |
1967年4月 | 信越石油化学工業株式会社(メタノール等の製造)を吸収合併 |
武生工場においてイットリウム等高純度レア・アースの製造開始 | |
1968年2月 | 鹿島塩ビモノマー株式会社(塩化ビニルモノマーの製造 現連結子会社)を設立 |
1969年9月 | 直江津電子工業株式会社(半導体シリコンの加工 現連結子会社)を設立 |
1970年8月 | 茨城県鹿島郡(現神栖市)に鹿島工場を建設、エチレン法による塩化ビニルの製造開始 |
1973年2月 | 武生工場において希土類磁石の製造開始 |
1973年7月 | シンテックINC.(塩化ビニルの製造 現連結子会社)を米国に設立 |
信越半導体株式会社の子会社としてS.E.H.マレーシアSDN.BHD.(半導体シリコンの加工 現連結子会社)をマレーシアに設立 | |
1976年4月 | 工務部門を分離して信越エンジニアリング株式会社(現連結子会社)を設立 |
1979年3月 | 信越半導体株式会社の子会社としてシンエツハンドウタイアメリカInc.(半導体シリコンの製造 現連結子会社)を米国に設立 |
1979年10月 | 直江津工場において合成石英製ICフォトマスク用基板の製造開始 |
1983年11月 | 磯部工場において光ファイバー用プリフォームの製造開始 |
1983年12月 | 信越ポリマー株式会社、東京証券取引所に株式を上場 |
1984年5月 | 信越半導体株式会社の子会社としてシンエツハンドウタイヨーロッパLTD.(半導体シリコンの加工 現連結子会社)を英国に設立 |
1992年4月 | 直江津工場においてフォトレジスト製品の製造開始 |
1992年8月 | 群馬県碓氷郡(現安中市)に松井田工場を設置し、同工場と磯部工場とを統轄する群馬事業所を群馬県安中市に新設 |
1995年11月 | 信越半導体株式会社の子会社として台湾信越半導体股份有限公司(半導体シリコンの加工 現連結子会社)を台湾に設立 |
1999年12月 | シンエツPVC B.V.(オランダ 現連結子会社)がシェルネーデルランドケミーB.V.(オランダ)及びアクゾノーベルベイスケミカルズB.V.(オランダ)の塩化ビニル合弁事業を買収 |
2000年10月 | 信越金属工業株式会社を吸収合併 |
2003年12月 | シンエツインターナショナルヨーロッパB.V.(オランダ 現連結子会社)がドイツのセルロース事業会社クラリアント タイローズGmbH & Co. KG(現SE タイローズ GmbH & Co. KG 現連結子会社)を買収 |
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