有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S10054R9
株式会社ヒラノテクシード 沿革 (2015年3月期)
1935年6月 | 大阪府南河内郡加美村(現在大阪市平野区)に平野金属合資会社を創業。 |
1939年3月 | 「熱と風」の理論と探究から応用技術を生かした熱風乾燥機、輸送機器、化学機器等の設計、製造、販売を行う。 |
1947年4月 | 染色仕上関係機器に重点を置いた各種乾燥機を開発。 |
1957年3月 | 平野興産株式会社に吸収合併され、同時に平野金属株式会社に商号変更(平野興産株式会社は1956年3月設立)。 |
1961年9月 | 株式の券面額変更のため太平金属株式会社に吸収合併され、同時に平野金属株式会社に商号変更(太平金属株式会社は1949年7月設立)。 |
1962年4月 | 大阪証券取引所市場第二部に上場。 |
1964年4月 | 輸出貢献企業として通商産業省より表彰される。 |
1970年8月 | 奈良工場(現在の本社工場)建設に着手。 |
1973年6月 | 「ヒラノテクニカム」を設置し、コーティング、ラミネーティングなどの加工実験を行い得る設備が完成。 |
1976年11月 | 繊維部門で溶剤精練仕上装置が財団法人機械振興協会賞を受ける。 |
1978年6月 | ヒラノ技研工業株式会社(現連結子会社)を設立。 |
1981年7月 | 繊維機械の新機種シンプレックステンターが優秀省エネルギー機器表彰を受賞し、通商産業省より省エネルギー税制優遇措置適用機種となる。 |
1983年9月 | 集中コンピューター・コントロールシステムを開発し、巻出しから塗工、乾燥、巻取りに至る一連の装置に対し、集中指令、集中管理を行う新システムを確立。 |
1987年6月 | 株式会社ヒラノエンテック(現連結子会社)を設立。 |
1987年10月 | 光音電気株式会社(現ヒラノ光音株式会社(現連結子会社))を買収。 |
1988年4月 | 株主割当による増資を行い資本金は560,000千円から1,053,026千円となる。 |
1989年1月 | 社名変更を行い、平野金属株式会社から株式会社ヒラノテクシードとなる。 |
1990年3月 | 新鋭「ヒラノテクニカム(研究及び実験施設)」竣工。 |
1990年11月 | スイス・フラン建転換社債の転換により資本金は1,847,822千円となる。 |
1998年4月 | 国際標準化機構(ISO)の品質保証規格「ISO9001」の認証を取得。 |
2001年11月 | 中厚セラミックシート成形テスト機「M-600SF」をテクニカムに設置。 |
2001年12月 | 第5世代LCD用「新型 Capillary Coater」を開発。 |
2002年3月 | 有機EL発光層成膜プロセスを開発。 |
2002年12月 | 耐環境膜の薄膜コーティング技術を開発。 |
2009年12月 | 高精度のリチウムイオン電池電極塗工装置「R-800DB」をテクニカムに設置。 |
2013年7月 | 東京証券取引所と大阪証券取引所の市場統合に伴い、東京証券取引所市場第二部へ上場。 |
2014年3月 | ヒラノ光音株式会社(現連結子会社)の本社及び工場を当社敷地内に新築移転。 |
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