株式会社エスケーエレクトロニクス 研究開発活動 (2015年9月期)

当社グループにおける当連結会計年度の研究開発活動は次のとおりであり、研究開発費の総額は3億64百万円であります。

(大型総合フォトマスク事業)
(1) 研究開発の目的及び体制
当社グループでは、大型化、高精細化、多様化が進む大型フォトマスクの顧客ニーズにタイムリーかつ的確に対応することを目的に、当社の研究開発部門である技術部を再編いたしました。これにより的確な顧客要求を迅速に取り入れることが出来る体制が整い、連結子会社である頂正科技股份有限公司とより一層連携し、研究開発を進めて参ります。
(2) 研究開発のテーマ及び成果
当社グループでは、大型、4K化が進むテレビ用大型液晶パネル及びスマートフォン等の高精細化に対応する中小型液晶、有機ELパネル用の大型フォトマスクの研究、開発に取り組んでおります。
当連結会計年度のテーマについては、高機能TV或いはスマートフォン、タブレット型コンピューター用として高精細、高精度の大型フォトマスクの需要が高まり、微細加工技術、高精度対応技術の開発に注力すると共に、露光性能を向上する高機能の大型フォトマスクの開発を継続実施しております。
開発の成果といたしましては、第10世代用工場である滋賀工場、第8世代用量産工場である京都工場共に、これらの技術を展開した高機能製品を国内外の大手顧客に対して出荷し、高い評価を得ると共に量産を開始し、売上に貢献いたしました。
なお、当連結会計年度における当事業の研究開発費は2億23百万円であります。

(新規事業開発)
(1) 研究開発の目的及び体制
当社グループでは、フォトマスク以外の事業において新しい柱となる事業の開発を目的として継続的にM&Aを含めて、新規事業の開発に向けた活動を行っております。
体制としては事業開発室の下、開発事業ごとに組織を編成し、M&Aにおいては経営戦略室と共に活動を行っています。
(2) 研究開発のテーマ及び成果
現在の新規事業のテーマとしては、イメージングシステム事業として、当社独自製品である「デジタルマイクロスコープ」、「コロニーカウンター」について、競合他社との差別化を図り売上拡大を目指しています。
さらにプリンテッドエレクトロニクス事業において、「厚膜レジスト原盤」、「電鋳版」、当社の大型フォトマス
ク製造技術を応用した「ガラスドライエッチング版」の開発及び拡販を進めています。
また、その他にも当社グループの保有する微細加工技術を生かした新規事業の開発を模索し、製品開発を進める一方、外部技術の導入や異業種への参入など幅広い視野での検討を行い、新規事業の研究開発を進めております。
また、国内外の市場を対象として、極小RFID(Radio Frequency Identification)の開発及びRFIDを使用したシステム展開事業の推進による事業化を目指しています。
2015年10月よりヘルスケア事業への参入を進め、「もっと身近に、もっと笑顔に」をモットーとして「SEM Glove 自立支援用」の販売をスタートし、自社開発商品も市場へ投入するべく活動を展開していきます。
そして2015年7月には株式会社清原光学をM&Aにより子会社とし、事業エリアの拡大と、当社の本業及び新規事業分野への技術的な相乗効果も期待されます。
なお、当連結会計年度における新規事業開発の研究開発費は1億41百万円であります。