ジオマテック株式会社 研究開発活動 (2015年3月期)

(1) 研究開発活動の体制
当社の研究開発活動は、新製品及び要素技術の開発を行う第二技術部と既存製品の改良・改善、製造設備の開発を行う第一技術部、施設部の3部門が密接に連携を取りながら担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記3部門の他、営業部を含めプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。
また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も第二技術部を中心に推進しております。
(2) 研究開発活動の方針
当社は、「真空成膜技術」をコア技術とした事業による、企業価値の追求、社会への貢献を使命としております。そのために、研究開発部門はFPD、光学機器用部品関連を中心に、エネルギーや薄膜デバイス関連の幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を継続し続けることを基本方針としております。
(3)研究開発活動における当連結会計年度の主要課題
当社グループは、真空成膜関連製品等の製造、販売を行う単一セグメントであるため、品目別に記載しております。
(FPD用基板)
①静電容量タッチパネル(インセル方式)向け電極膜の量産化技術確立
②低反射メタルメッシュ用の低反射膜の開発と量産化技術確立
③金属材料を用いた低抵抗透明導電膜の開発と同膜を用いた透明メッシュの量産化技術確立
④マスキング成膜の量産化技術確立
⑤パターニング加工技術の開発
(光学機器用部品)
①車載用カバーパネル向け反射防止膜の開発
②レーザ光学系THGテレセントリックレンズの開発
③赤外用光学薄膜の開発
(その他)
①各種センサーデバイスの開発
②バイオ・メディカル機器向け薄膜ヒータデバイスの開発
③マスクブランクス向け高透過PS膜の開発
④超撥水膜の開発
⑤高品位加飾膜の開発
⑥高導電性硬質膜の開発
⑦円筒管及び細管等異形品への成膜加工技術の開発
なお、当連結会計年度の研究開発費の総額は4億47百万円であります。