有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S10055J6
株式会社JCU 研究開発活動 (2015年3月期)
事業等のリスクメニュー財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析
当社は、薬品事業及び新規事業を中心として、「独創的かつスピーディーな研究開発をスローガンに、世界の顧客に信頼されるオリジナル製品を提供する」ことを理念とした研究開発活動を推進しております。新製品及び新技術の開発はもちろんのこと、従来技術の改良等も随時行うことで、顧客満足度の向上を図っております。自動車・建材からエレクトロニクス・半導体に至る幅広い業界の最先端技術に対応すべく、顧客との共同研究も視野に入れております。
当連結会計年度における研究開発費額は、薬品事業が716百万円、新規事業が132百万円、総額849百万円であります。
(1) 薬品事業
薬品事業における研究開発活動は、・環境にやさしい製品の表面処理プロセス
・エレクトロニクス業界での高密度、微細配線技術、生産性向上
・自動車関連業界での高外観、高耐食性表面処理技術
・海外・新興市場向けの低コスト対応表面処理技術
を課題として、「自動車部品や水栓部品等に要される樹脂及び金属材料に表面処理を行う技術」、スマートフォン用途を中心としたエニーレイヤー構造を有する高密度プリント配線板及びパッケージ基板向けのプロセス「ビアフィリング硫酸銅めっき」、「スルホールフィリング硫酸銅めっき」、「微細配線用各種エッチング液」、関連技術として「半導体ウエハー用各種めっきプロセス」、「めっき液・エッチング液自動分析管理装置」などの総合薬品メーカーとして顧客の多様な要求に応えるべく、たゆまぬ開発努力を続けてまいりました。また、より高度化する技術要求に対応するための改良も継続しております。
2015年3月期に完成した製品は次のとおりであります。
① 高速ビアフィリング硫酸銅めっきプロセス
② スルホールフィリング硫酸銅めっきプロセス(バーションアップ)
③ 基板用高速銅ピラーめっきプロセス
④ 銅厚調整用エッチングプロセス(バーションアップ)
⑤ サテンニッケルめっきプロセス
(2) 装置事業
装置事業における研究開発は、高品質で高機能な自動車部品用めっき装置やプリント配線板向けめっき装置等、顧客の多様な要求に応えるべく、たゆまぬ努力を続けております。(3) 新規事業
新規事業における研究開発としては、・従来の湿式処理では対応できない課題を解決するためのプラズマ技術あるいはスパッタリング技術を応用したドライ表面処理
・クロムフリー化成処理
・無機材料ベースのハイブリッドコーティング材
・ボルトナット用高耐食性化成処理のコーティング材
・貴金属めっき薬品
・機能性化粧品
などを行っております。
事業等のリスク財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析
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ご利用にあたっては、こちらもご覧ください。「ご利用規約」「どんぶり会計β版について」。
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