Ｍｉｐｏｘ株式会社 研究開発活動 (2015年3月期)

当連結会計年度における研究開発活動は、経営基本方針である「業界をリードする製品事業の拡充」「受託事業強化」に従って進めてまいりました。また、グローバル基本戦略「ローカルフィット戦略」に沿って各地域に適した製品開発と事業展開を実施してまいりました。
日本では、主に各種研磨フィルムと研磨加工技術・研磨プロセス技術に関する研究開発活動を進め、マレーシア連結子会社では主にハードディスク関連の精密洗浄剤・液体研磨剤の研究開発活動を進めてまいりました。
その結果、当連結会計年度における当社グループの研究開発費は19百万円となりました。
主な研究開発活動は次のとおりであります。

(製品事業)

① ハードディスク関連
ハードディスク関連において、最新のコーティングライン「G-Line」でNCTフィルムをはじめとして低コンタミのフィルムを開発し製品化、パーティクル低減のためのプロセス設計、原材料の専用化などの研究開発活動を、マレーシア連結子会社とともに進めてまいりました。
また、ハードディスク用磁気ヘッド加工向けにダイヤモンド研磨フィルムの開発にも継続して取り組んでまいりました。
その結果、当連結会計年度における研究開発費は5百万円となりました。

② 光ファイバー関連
光ファイバー関連において、同じく「G-Line」にて新たな仕上げ工程向け研磨フィルムを開発。また、ダイヤモンド研磨フィルムも新たにリリースいたしました。
これらの製品は、当期の継続した売上につながりました。
その結果、当連結会計年度における研究開発費は3百万円となりました。

(受託事業)

受託製造においては、ユーザーニーズに対応するための設備改良やプロセス設計に取り組んでまいりました。
また、研磨加工技術、研磨プロセス技術の研究開発も継続して取り組んでまいりました。
研磨加工技術、研磨プロセス技術は、受託研磨加工等の売上につながっております。
その結果、当連結会計年度における研究開発費は4百万円となりました。