有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100YKF2 (EDINETへの外部リンク)
ジオマテック株式会社 研究開発活動 (2026年3月期)
(1) 薄膜技術、生産技術の体制
当社の薄膜技術、生産技術を軸とした技術開発テーマ活動は、事業領域の拡大および事業モデルの変革を目的に、新たな技術の創出を目指して、「製造技術本部」および「営業事業推進本部」を中心とした体制で推進しております。
製造技術本部は、既存製品に新たな価値を付加するため、従来技術の高度化に加え、前後工程を含めた生産技術の開発・確立に取り組んでおります。一方、営業事業推進本部は、顧客課題の早期解決に向けた窓口として「試作・単品開発」のフロント機能を担い、そこで得られる最先端の市場ニーズや技術トレンドを起点とした技術開発テーマの企画・推進に注力しております。技術開発テーマの重要性に応じて、両本部を含めたセグメントチームを編成し、効率的かつ組織的に新たな技術、製品の開発に取り組んでおります。特に、試作を通じて得られる顧客からのフィードバックを迅速に技術開発テーマに反映させることで、自社での量産化に加え、アライアンスやマニュファクチャリングサービス(技術・ライン提供等)を含む、最適な事業化形態を初期段階から想定した、機動的な開発体制を強化しております。また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクトや共同研究も、両本部を中心として積極的に推進しております。
なお、技術開発テーマの選定にあたっては、技術的優位性に加え、試作から量産化への確実なつながり、事業化の実現性および収益性を重視し、経営資源の最適配分の観点から重点領域を設定しております。
(2) 薄膜技術、生産技術の方針
当社は、「地球・人類・技術の融合により、明るく豊かな未来を創造する」という企業理念のもと、価値ある薄膜技術と生産技術を提供することにより、ものづくりとテクノロジーの発展に貢献することを使命としております。
この使命の実現に向けて、薄膜技術、生産技術を軸とした技術開発活動においては、「薄膜技術」の幅広い分野への応用、要素技術の開発、新製品の提供を通じて、ディスプレイ、半導体・電子部品、その他、といった各事業領域におけるコア技術の創出に注力してまいりました。
今後は、従来の薄膜技術に生産技術を融合した「高品質で再現性の高いものづくり」から、顧客の利便性、ニーズに基づく開発とご提案から信頼の獲得と当社の収益性の両立を実現する、「薄膜技術×生産技術主導」の考え方のもと、周辺加工技術、設計技術、評価技術など、当社の強みである生産技術力を活かし、前後工程を含めた提供価値の拡張およびマニュファクチャリングサービスへの展開に取り組んでまいります。これら多様な提供価値の創出において、独自技術の優位性維持や技術的参入障壁の構築、あるいは、潜在需要の開拓などそれぞれを支える起点となるのが、設計・開発の初期段階における「試作・単品対応」であります。当社は、この試作プロセス自体を顧客の潜在課題を探るマーケティング活動として位置づけ、開発の初期段階から技術および事業化ポテンシャルにおける厳格な選別基準を設けることで、将来性・収益性・技術実現性の高い案件にリソースを集中投下いたします。これにより、試作段階から明確な付加価値を設定し、顧客にその価値を認識していただくことで、顧客の利便性を高めつつ、高収益で持続的な事業成長に繋げてまいります。
また、自社生産のみならず、技術提供や外部リソースとのアライアンスを交えた多角的な事業化手法を視野に入れることで、過度な設備投資に依存するのではなく、外部連携や既存資産の有効活用を含めた効率的な技術開発を推進し、資本効率を最大化する生産技術開発活動を展開してまいります。研究開発活動で得られた知見や試作内容は形式知化や仕組化を経て、社内の財産として蓄積することで、技術資産の最大化と対応スピードの向上を図ります。
(3)薄膜技術、生産技術活動における当事業年度の主要課題
当社は、成膜加工関連事業の単一セグメントであるため、品目別に記載しております。
(半導体・電子部品)
①ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発
②金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発
③弾性波デバイス用音響多層膜の開発
④MEMSデバイス用圧電薄膜の開発
⑤パワーデバイス用GaNテンプレートウエハーの開発
⑥貫通ビアへの成膜技術の開発
(その他)
⑦g.moth®などのナノ構造体製品の生産技術確立
⑧g.moth®などのナノ構造体応用の製品開発
⑨g.slip®などの高滑落性機能材料の開発
⑩g.black™などの無反射黒色シートの開発
⑪プラズマプロセス技術の開発
⑫高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発
これらの開発にあたっては、単なる要素技術の高度化にとどまらず、将来的な自社生産、あるいはマニュファクチャリングサービス(技術提供等)やアライアンスといった多角的な事業モデルへの展開可能性を見据えた生産技術の確立と一体で推進しております。さらに、技術開発テーマについては、試作段階から事業化判断基準を明確化し、一定の成果が見込めない場合には適時見直しを行うなど、選択と集中を徹底しております。これにより、中長期的な資本効率の向上と、持続的な企業価値の最大化に貢献してまいります。
なお、当事業年度の研究開発費の総額は223百万円であります。
当社の薄膜技術、生産技術を軸とした技術開発テーマ活動は、事業領域の拡大および事業モデルの変革を目的に、新たな技術の創出を目指して、「製造技術本部」および「営業事業推進本部」を中心とした体制で推進しております。
製造技術本部は、既存製品に新たな価値を付加するため、従来技術の高度化に加え、前後工程を含めた生産技術の開発・確立に取り組んでおります。一方、営業事業推進本部は、顧客課題の早期解決に向けた窓口として「試作・単品開発」のフロント機能を担い、そこで得られる最先端の市場ニーズや技術トレンドを起点とした技術開発テーマの企画・推進に注力しております。技術開発テーマの重要性に応じて、両本部を含めたセグメントチームを編成し、効率的かつ組織的に新たな技術、製品の開発に取り組んでおります。特に、試作を通じて得られる顧客からのフィードバックを迅速に技術開発テーマに反映させることで、自社での量産化に加え、アライアンスやマニュファクチャリングサービス(技術・ライン提供等)を含む、最適な事業化形態を初期段階から想定した、機動的な開発体制を強化しております。また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクトや共同研究も、両本部を中心として積極的に推進しております。
なお、技術開発テーマの選定にあたっては、技術的優位性に加え、試作から量産化への確実なつながり、事業化の実現性および収益性を重視し、経営資源の最適配分の観点から重点領域を設定しております。
(2) 薄膜技術、生産技術の方針
当社は、「地球・人類・技術の融合により、明るく豊かな未来を創造する」という企業理念のもと、価値ある薄膜技術と生産技術を提供することにより、ものづくりとテクノロジーの発展に貢献することを使命としております。
この使命の実現に向けて、薄膜技術、生産技術を軸とした技術開発活動においては、「薄膜技術」の幅広い分野への応用、要素技術の開発、新製品の提供を通じて、ディスプレイ、半導体・電子部品、その他、といった各事業領域におけるコア技術の創出に注力してまいりました。
今後は、従来の薄膜技術に生産技術を融合した「高品質で再現性の高いものづくり」から、顧客の利便性、ニーズに基づく開発とご提案から信頼の獲得と当社の収益性の両立を実現する、「薄膜技術×生産技術主導」の考え方のもと、周辺加工技術、設計技術、評価技術など、当社の強みである生産技術力を活かし、前後工程を含めた提供価値の拡張およびマニュファクチャリングサービスへの展開に取り組んでまいります。これら多様な提供価値の創出において、独自技術の優位性維持や技術的参入障壁の構築、あるいは、潜在需要の開拓などそれぞれを支える起点となるのが、設計・開発の初期段階における「試作・単品対応」であります。当社は、この試作プロセス自体を顧客の潜在課題を探るマーケティング活動として位置づけ、開発の初期段階から技術および事業化ポテンシャルにおける厳格な選別基準を設けることで、将来性・収益性・技術実現性の高い案件にリソースを集中投下いたします。これにより、試作段階から明確な付加価値を設定し、顧客にその価値を認識していただくことで、顧客の利便性を高めつつ、高収益で持続的な事業成長に繋げてまいります。
また、自社生産のみならず、技術提供や外部リソースとのアライアンスを交えた多角的な事業化手法を視野に入れることで、過度な設備投資に依存するのではなく、外部連携や既存資産の有効活用を含めた効率的な技術開発を推進し、資本効率を最大化する生産技術開発活動を展開してまいります。研究開発活動で得られた知見や試作内容は形式知化や仕組化を経て、社内の財産として蓄積することで、技術資産の最大化と対応スピードの向上を図ります。
(3)薄膜技術、生産技術活動における当事業年度の主要課題
当社は、成膜加工関連事業の単一セグメントであるため、品目別に記載しております。
(半導体・電子部品)
①ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発
②金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発
③弾性波デバイス用音響多層膜の開発
④MEMSデバイス用圧電薄膜の開発
⑤パワーデバイス用GaNテンプレートウエハーの開発
⑥貫通ビアへの成膜技術の開発
(その他)
⑦g.moth®などのナノ構造体製品の生産技術確立
⑧g.moth®などのナノ構造体応用の製品開発
⑨g.slip®などの高滑落性機能材料の開発
⑩g.black™などの無反射黒色シートの開発
⑪プラズマプロセス技術の開発
⑫高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発
これらの開発にあたっては、単なる要素技術の高度化にとどまらず、将来的な自社生産、あるいはマニュファクチャリングサービス(技術提供等)やアライアンスといった多角的な事業モデルへの展開可能性を見据えた生産技術の確立と一体で推進しております。さらに、技術開発テーマについては、試作段階から事業化判断基準を明確化し、一定の成果が見込めない場合には適時見直しを行うなど、選択と集中を徹底しております。これにより、中長期的な資本効率の向上と、持続的な企業価値の最大化に貢献してまいります。
なお、当事業年度の研究開発費の総額は223百万円であります。
このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E02431] S100YKF2)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
ご利用にあたっては、こちらもご覧ください。「ご利用規約」「どんぶり会計β版について」。
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