株式会社ナ・デックス 研究開発活動 (2016年4月期)

当連結会計年度の研究開発活動は、抵抗溶接製品関連およびレーザ加工技術関連を主体に開発活動を行っております。
セグメント別の研究開発活動につきましては、主に日本で研究開発活動を行っており、次のとおりであります。
抵抗溶接製品関連につきましては、顧客のニーズを取入れた付加価値の高い研究開発に取組んでおります。当連結会計年度は、Ethernet/IP通信仕様、Webサーバー機能、フリーフォーマット機能等を搭載した抵抗溶接制御装置および大容量インバーター式抵抗溶接制御装置を開発いたしました。これらの製品は、米国子会社製の製品を用いて開発を行っており、グループ会社が一体となった製品の高度化・効率化に取組んでおります。また、新興国市場をターゲットとして溶接条件設定の簡単化を図るため、溶接対象の板組を自動判別する機能を搭載したポータブルスポット溶接用抵抗溶接制御装置を開発いたしました。本製品は、自動車関連企業においてモニター評価を実施頂き高評価を得ており、今秋以降、海外拠点での2次評価を行う予定となっております。このほか、従来製品に比べて電極チップの高寿命化に寄与するチップクリーンの開発を行っております。
レーザ加工技術関連におきましては、ファイバーレーザ加工システムの開発を行いました。レーザ発振器は海外メーカー製が主流であり、国内の顧客からは国産レーザ加工システムのご要望を頂いております。当社グループでは、このご要望にお応えできるよう、今後も自社開発製品による国産レーザ加工システムの提供を進めてまいります。
なお、当連結会計年度における当社グループが支出した研究開発費の金額は4億2千3百万円であります。
当連結会計年度における研究開発により製品化されたものは、次のとおりであります。
・Ethernet/IP通信仕様抵抗溶接制御装置
・大容量インバーター式抵抗溶接制御装置
・板組自動判別機能搭載ポータブルスポット溶接用抵抗溶接制御装置
・ファイバーレーザ加工システム

(注) 上記金額には、消費税等は含まれておりません。