株式会社昭和真空 研究開発活動 (2017年3月期)

当社グループは真空技術をベースに、メカトロニクス・薄膜形成技術等の先端技術により、特に情報通信分野に適合した新製品の開発に注力しております。
当社グループの研究開発は要素技術、装置開発、プロセス開発を技術開発部が担当しております。一部門で行うことで、要素開発・装置開発とプロセスを直結し、開発効率を上げ、市場要望に対応した開発を図っております。また、重点開発には、これら基盤技術ならびに装置開発について、市場要請に迅速に対応するため、技術部門を中心としたメンバーから構成される社内横断的プロジェクト制を導入して、速やかに研究開発を推進しております。
当連結会計年度における研究開発活動は次のとおりです。

水晶デバイス装置
スマートフォン等の高性能化に伴う水晶振動子の極小化に向けて、搬送・測定・調整ユニットの開発を進めています。また、ウェハー状の周波数調整技術の開発を行い、既存の個片処理に比べてスループットの増大を実現します。

光学装置
スマートフォン等に搭載されているカメラモジュール等の光学部品分野における光学薄膜形成用真空蒸着装置におきまして、高品質の膜質を提供する蒸着装置として改良を加え、低価格のAR専用蒸着装置、量産型フィルター用光学蒸着装置を販売しております。また、ヘビーユーザー向けに以下の2機種の新商品発表会を開催しました。
Genesis-AR(ジェネシス エーアール)
複雑な表面形状部品への成膜に対応するALD装置
AXIS(アクシス)
φ1700蒸着装置(当社製)の約3倍の生産能力を有するロードロック式スパッタ装置

電子部品・その他装置
ワンセグやGPS機能を付加したスマートフォン等に用いられている電子部品分野向けの高精度薄膜形成装置や高性能ドライエッチング装置の開発を継続して実施しております。新たなプロセスとしてALDによる色調調整装置、バリア膜形成装置の開発・販売を行っています。また、タブレット・スマートフォン等の移動体通信機器に用いられるSAWフィルター生産ラインの効率化を目指し、電極形成用蒸着装置、アッシング装置、周波数調整装置の開発も継続して進めています。

当連結会計年度における研究開発費の総額は、4億15百万円となっております。