株式会社ナ・デックス 研究開発活動 (2017年4月期)

当連結会計年度の研究開発活動は、抵抗溶接製品関連およびレーザ加工技術関連を主体に開発活動を行っております。
セグメント別の研究開発活動につきましては、主に日本および中国で研究開発活動を行っており、次のとおりであります。
抵抗溶接製品関連につきましては、顧客のニーズを取入れた付加価値の高い研究開発に取組んでおります。当連結会計年度は、Ethernet/IP通信仕様の抵抗溶接制御装置を開発いたしました。本製品は、米国子会社製の製品を用いて開発を行っており、グループ会社が一体となった製品の高度化・効率化に取組んでおります。また、マーケットニーズに基づき機能を絞ったベーシック仕様の交流式抵抗溶接制御装置を開発いたしました。本製品は、自動化のニーズが高まる新興国市場向け製品として開発しており、現地顧客の開拓、販路の拡大が期待できます。
レーザ加工技術関連におきましては、ファイバーレーザ発振器用コントローラーを開発いたしました。国産のレーザ発振器と組合せることにより、顧客からのご要望が強いメンテナンス性の優れた国産レーザ加工システムの提供を進めてまいります。また、従来の溶接工法に比べ生産性が向上する、大出力レーザを用いた厚板溶接工法を開発いたしました。本工法は厚板の貫通溶接において、深い溶込み深さと良質な溶接ビート品質を実現しており、学会にて研究成果を発表いたしました。
このほか、急速充電器の後継機を開発し、製品化しております。
なお、当連結会計年度における当社グループが支出した研究開発費の金額は3億7千3百万円であります。
当連結会計年度における研究開発により製品化されたものは、次のとおりであります。
・Ethernet/IP通信仕様抵抗溶接制御装置
・ベーシック仕様交流式抵抗溶接制御装置
・ファイバーレーザ発振器用コントローラー
・大出力レーザによる厚板溶接工法
・急速充電器

(注) 上記金額には、消費税等は含まれておりません。