有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100D927
芝浦メカトロニクス株式会社 研究開発活動 (2018年3月期)
当社グループは、要素技術から製品の開発まで、積極的な研究開発活動を行なっております。
現在、研究開発は当社の研究開発部門と事業部の開発・設計部門及び連結子会社の技術部門が推進しております。当社グループの研究開発スタッフは約290名であります。
また、株式会社東芝の研究開発センター、生産技術センターと連携・協力関係を強化の上、先進技術の研究開発と商品化を効率的に進めております。
当連結会計年度におけるグループ全体の研究開発費は2,492百万円であります。この中には、各セグメントに配分できない全社共通の要素技術開発費507百万円が含まれております。
各セグメント別の研究成果、研究開発費は次のとおりであります。
(1)ファインメカトロニクス
フラットパネル製造装置では、高精細・中小型パネル対応のウェットプロセス装置及び配向膜用インクジェット塗布装置の開発を、半導体製造装置では、次世代デバイス対応洗浄装置、枚葉式窒化膜ウェットエッチング装置、及びマスク用ドライエッチング装置の開発等をあげることができます。
研究開発費は974百万円であります。
(2)メカトロニクスシステム
液晶、OLEDモジュール組立装置では、中小型パネル用、及び大型高精細パネル用OLB装置の開発を、半導体組立装置では高速高精度ボンディング装置の開発等をあげることができます。電子・真空機器分野では、光学系薄膜、及び電磁波シールド膜のスパッタリング装置の開発等をあげることができます。
研究開発費は837百万円であります。
(3)流通機器システム
券売機分野では、大型画面タッチパネル券売機の開発等をあげることができます。また、新分野への進出としてカードリーダーの開発をあげることができます。
研究開発費は172百万円であります。
現在、研究開発は当社の研究開発部門と事業部の開発・設計部門及び連結子会社の技術部門が推進しております。当社グループの研究開発スタッフは約290名であります。
また、株式会社東芝の研究開発センター、生産技術センターと連携・協力関係を強化の上、先進技術の研究開発と商品化を効率的に進めております。
当連結会計年度におけるグループ全体の研究開発費は2,492百万円であります。この中には、各セグメントに配分できない全社共通の要素技術開発費507百万円が含まれております。
各セグメント別の研究成果、研究開発費は次のとおりであります。
(1)ファインメカトロニクス
フラットパネル製造装置では、高精細・中小型パネル対応のウェットプロセス装置及び配向膜用インクジェット塗布装置の開発を、半導体製造装置では、次世代デバイス対応洗浄装置、枚葉式窒化膜ウェットエッチング装置、及びマスク用ドライエッチング装置の開発等をあげることができます。
研究開発費は974百万円であります。
(2)メカトロニクスシステム
液晶、OLEDモジュール組立装置では、中小型パネル用、及び大型高精細パネル用OLB装置の開発を、半導体組立装置では高速高精度ボンディング装置の開発等をあげることができます。電子・真空機器分野では、光学系薄膜、及び電磁波シールド膜のスパッタリング装置の開発等をあげることができます。
研究開発費は837百万円であります。
(3)流通機器システム
券売機分野では、大型画面タッチパネル券売機の開発等をあげることができます。また、新分野への進出としてカードリーダーの開発をあげることができます。
研究開発費は172百万円であります。
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このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E01757] S100D927)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
ご利用にあたっては、こちらもご覧ください。「ご利用規約」「どんぶり会計β版について」。
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