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有価証券報告書 抜粋　ドキュメント番号: S100E6G2

有価証券報告書抜粋 レーザーテック株式会社 沿革 (2018年6月期)

提出会社の経営指標等メニュー事業の内容

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年月事項
1960年7月東京都目黒区において当社の前身である㈲東京アイ・テイ・ブイ研究所を設立。
X線テレビジョンカメラの開発、設計、製造を開始。
1962年8月資本金1,000千円で日本自動制御㈱を設立。
X線テレビジョンカメラ及び工業用テレビジョンカメラの開発、設計、製造、販売を主業務とする。
1963年8月神奈川県川崎市木月へ本社を移転。
1965年11月神奈川県川崎市北加瀬へ本社を移転。
1971年5月磁気テープ走行中のテンションを測定する「テンションアナライザー」を開発。
1975年2月フォトマスクのピンホールを発見する「フォトマスクピンホール検査装置」を開発。
1975年4月「顕微鏡自動焦点装置」を開発。
1976年10月LSIのマスクパタンの欠陥を自動検査する「フォトマスク欠陥検査装置」を世界で初めて開発。
1980年4月神奈川県横浜市港北区綱島東へ本社を移転。
1985年6月「カラーレーザー顕微鏡」を開発。
1986年6月商号を「レーザーテック株式会社」に変更。
1986年7月子会社㈱レーザーテック研究所を東京都港区に設立。
1986年12月Lasertec U.S.A., Inc.(現連結子会社)を米国カリフォルニア州サンノゼ市に設立。
1987年6月子会社レーザーテック販売㈱を東京都港区に設立。
1989年7月㈱レーザーテック研究所及びレーザーテック販売㈱を吸収合併。
1990年12月日本証券業協会に店頭売買銘柄として株式を登録。
1993年7月LCD(液晶ディスプレイ)の突起欠陥等を検査し、修正する「カラーフィルター欠陥検査装置」及び「カラーフィルター欠陥修正装置」を開発。
1994年11月位相シフトマスクの位相シフト量を測定する「位相シフト量測定装置」を開発。
1996年12月フォトマスクに装着されているペリクル及びフォトマスクの裏面に付着した異物を検査する「ペリクル面異物検査装置」を開発。
1998年8月半導体ウェハ上の欠陥をマルチビームレーザーコンフォーカル光学系を利用して検査する「ウェハ欠陥検査装置」を開発。
2000年2月フォトマスクのマスクブランクスの欠陥を検査する「マスクブランクス欠陥検査装置」を開発。
2001年2月Lasertec Korea Corporation(現連結子会社)を韓国ソウル市に設立。
2004年12月ジャスダック証券取引所(現 東京証券取引所JASDAQ(スタンダード))に株式を上場(2012年5月上場廃止)。
2008年3月神奈川県横浜市港北区新横浜へ本社を移転。
2009年5月太陽電池の変換効率分布を可視化する「太陽電池変換効率分布測定機」を開発。
2010年6月Lasertec Taiwan, Inc.(現連結子会社)を台湾新竹県竹北市に設立。
2012年3月
2013年3月
2017年4月

2017年6月		東京証券取引所市場第二部に株式を上場。
東京証券取引所市場第一部銘柄に指定を受ける。
世界で初めてEUV光(波長13.5nm)を用いた「EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置」を開発。
Lasertec China Co., Ltd.(Lasertec Taiwan, Inc.の100%子会社)を中国上海市に設立。
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このコンテンツは、EDINET閲覧（提出）サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E01991] S100E6G2)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート（以下、本レポート）です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
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