ジオマテック株式会社 研究開発活動 (2018年3月期)

(1) 研究開発活動の体制
当社の研究開発活動は、新製品及び要素技術の開発を行う第二技術部と既存製品の改良・改善、製造設備の開発を行う第一技術部、施設部の3部門が密接に連携を取りながら担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記3部門の他、営業部を含めプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。
また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も第二技術部を中心に推進しております。
(2) 研究開発活動の方針
当社は、「真空成膜技術」をコア技術とした事業による、企業価値の追求、社会への貢献を使命としております。そのために、研究開発部門はFPD、光学機器用部品関連を中心に、車載、エネルギーや薄膜デバイス関連の幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を継続し続けることを基本方針としております。
(3)研究開発活動における当連結会計年度の主要課題
当社グループは、真空成膜関連製品等の製造、販売を行う単一セグメントであるため、品目別に記載しております。
(FPD用基板)
①静電容量タッチパネル(インセル方式)向け高抵抗導電膜の量産技術確立
②パターニング・リフトオフ加工技術の開発
③メタルメッシュを適用した静電容量タッチパネル(アウトセル型)量産化技術確立
④フィルムタッチパネル向け透明電極加工技術確立
(その他)
①車載向け反射防止膜の量産化技術確立
②車載向け低反射透明導電膜の技術開発
③車載向けハーフミラー付きガラス製品の技術開発
④円筒内部を含めた異形品への成膜加工技術の開発
⑤極薄フイルムへの成膜加工技術の開発
⑥異形材料のパターニング加工技術の開発
⑦赤外用光学薄膜の開発
⑧超撥水膜・親水膜の開発とその応用製品の開発
⑨高品位加飾膜の開発とその応用製品の開発
⑩各種センサーデバイスの開発
⑪バイオ・メディカル機器向け製品開発
⑫静電容量型タッチスイッチの開発
⑬ヒーターの成膜及び周辺加工技術開発とその応用製品の開発
⑭フィルムへのインサート成型・TOM成型対応膜の開発
⑮ファンアウトレベルパッケージ用の微細回路形成材料(HRDP)の開発
なお、当連結会計年度の研究開発費の総額は3億79百万円であります。