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有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100D6L5

有価証券報告書抜粋 日本酸素ホールディングス株式会社 研究開発活動 (2018年3月期)


事業等のリスクメニュー株式の総数等

当社グループ(当社及び連結子会社)では、「進取と共創。ガスで未来を拓く。」を企業理念として、The Gas Professionalsをスローガンに、世界の工業ガスメジャーへの仲間入りを目指しています。
研究開発においては、当社独自のガステクノロジーを基盤として、エネルギー、環境、ガス分離精製、医療・ライフサイエンス、エレクトロニクス、ガスアプリケーション、ファインマテリアル等の新素材、先端技術分野に向けた新商品・新技術の開発に重点的に取組むことで、収益拡大に貢献しており、新規事業創出に向けた技術開発も積極的に取り組んでおります。また、知的財産の有効活用と特許出願についても鋭意推進しており、2017年12月末時点において当社が保有する特許の件数は738件となっております。
当連結会計年度に支出した研究開発費の総額は32億55百万円であり、その内訳は「国内ガス事業」に26億12百万円、「米国ガス事業」に5億93百万円、「サーモス他事業」に48百万円となっております。主な研究開発活動の概要は次のとおりです。

〔国内ガス事業〕
国内ガス事業においては、鉄鋼、化学工業、自動車産業、半導体メーカー、医療・ライフサイエンス等、様々な産業で当社の技術を利用いただいています。当連結会計年度末現在、つくば研究所、山梨研究所、SIイノベーションセンター、及び京浜事業所の4拠点が連携して研究開発を実施しております。
エネルギー分野では、低コストかつコンパクトな水素ステーションの開発を進め、移動式の「Hydro ShuttleⓇ」、定置式の「Hydro CityⓇ」を商品化しました。商用水素ステーションは当連結会計年度末現在で25箇所稼働しています。
超電導電力機器を-200℃以下まで冷却することができるネオンガス冷凍機「NeoKelvinⓇ-Turbo」を商品化し、2kW級に続き10kW級も販売を開始しています。韓国での商用高温超電導ケーブル向け、モスクワ市電力公社の超電導限流器向けに受注し、世界での高温超電導電力機器の普及促進へ大きな役割を担っています。
環境分野においては、排ガス処理装置を中心とした技術開発を行い、燃焼式、プラズマ式、吸着式など多様な排ガス処理装置技術により、多様化する半導体製造プロセスに対応しています。温暖化係数の高いガスの高効率処理等、新型排ガス処理装置も商品化し、多くの納入実績を上げています。
また、アーク炉での製鋼プロセス向けに省電力貢献している酸素燃焼用バーナ・ランス「SCOPE-JetⓇ」に加え、加熱炉での酸素富化燃焼バーナシステム「Innova-JetⓇ」による排ガスの超低NOx化を提案しています。
ガス深冷空気分離装置に関する技術では、装置のコンパクト化と低コスト化を実現しました。また、従来比で動力を10%削減した酸素製造装置の開発を完了しました。最近では、天然ガス液化装置の開発に取り組んでいます。
半導体産業向け等の窒素製造装置は、空気中に微量に含まれる一酸化二窒素の除去能力が高い高性能吸着剤を開発し、深冷式空気分離装置の高度化、差異化を図っています。
また、自社開発した高性能吸着剤を用いたレーザ加工機用窒素供給システムのリニューアルを実施し、省エネとともにシステムの小型化を達成しました。更に、アフターサービスにも強化を図り、遠隔監視サービスやメンテナンスパックの販売を開始しました。
医療・ライフサイエンス分野では、理化学研究所より技術導入したタンパク質合成キット「無細胞くん」の販売展開に加えて、大学発ベンチャーであるSAILテクノロジーズ株式会社を買収し、同社の持つ独創的なタンパク質解析技術(SAIL法)と高度な有機合成化学を獲得し、NMR分野を牽引できる開発・製造体制を強化しました。
全自動凍結保存システム「クライオライブラリーⓇ」は、多様化する運用に対応できるよう商品拡充を進めています。また、2015年度から、国立研究開発法人日本医療研究開発機構(AMED)の補助金事業へ参画しており、新たな小型の試料搬送容器「CryoHandy」を製品化し、販売を開始しました。
エレクトロニクス分野では、近年の半導体製造設備大型化、生産性の向上によって、特殊材料ガスの使用量が急激に増えております。当社では積極的に特殊材料ガスの大量供給技術開発に取り組んでおり、国内でトップシェアを維持しております。さらにアジア地区においては、新規開発した合成法による特殊材料ガス生産設備を導入するなど、電子材料ガス生産能力増強に取組んでいます。
3D-NANDに代表される新しいデバイス構造やSiGe/Geなど金属元素の多様化による半導体製造工程からの要求に対応したプロセス材料の開発にも取り組んでいます。低温SiN成膜材料などの開発とともに、SiO2-PECVD装置などのチャンバ部材を対象にクリーニング技術の開発を進めており、今後、ALDプロセス向けにプリカーサーや供給シーケンスの開発に注力します。
化合物半導体製造装置の開発においては、GaN系素子は、パワーデバイス等の電子デバイス用途としても注目されてきており、国内トップシェアを誇る高性能MOCVD装置を核として、顧客への対応力を強化します。GaN-MOCVD装置は、深紫外LEDやGaN基板上のLEDの生産も本格化しつつあり、高温処理対応の中型MOCVD「SR4000HT」を商品化、国内外との共同研究を推進して当社装置の優位性をさらに高めていきます。
新素材分野としては、当社の高配向カーボンナノチューブをCNT-uni(シーエヌティーユニ)としたブランド化を進めています。CNT-uniを用いて世界で初めて熱可塑性フッ素樹脂への導電性付与に成功し、半導体製造装置向けの販売を開始しています。併せて分散液の開発も完了しました。その他、ナノサイズのニッケルと銅の超微粒子の量産技術を確立し、商品化開発を進めています。
ガスアプリケーションとしては、流体の自励振動現象を応用して火炎をスイングさせることにより、広い範囲を効率良く均一加熱できる革新的な酸素富化バーナ「Innova-JetⓇ Swing」を開発し、販売を開始しています。低温機器では、航空機エンジンメーカーの要求に対応可能なサブゼロ装置を商品化しました。
米国のOptomec, Inc.の金属3Dプリンタを山梨研究所に導入し、金属粉末材料のサプライヤーであるLPW Technology Ltd.や金属3Dプリンタで部品設計・製造を行うSintavia LLCと提携して、ガス・装置・材料の供給体制を整え、同事業に本格的に参入しました。

〔米国ガス事業〕
米国ガス事業においては、コロラド州ロングモント研究所を拠点にエレクトロニクス分野における高純度材料ガスの製造、精製、分析技術の開発を行っております。グローバル市場において、めまぐるしく変化する顧客のニーズをいち早く捉えるため、グループ関係会社間でマーケティング活動の共有化、製造、物流を含めたサプライチェーンの最適化を通じて高品質、高付加価値製品の開発を行っております。当連結会計年度はフッ素系のエッチングガス製造方法を確立し、アジア量産工場へ移管致しました。また新たに低温窒素膜材料の精製技術開発、安定供給システムの開発に従事し、大手半導体メーカーとの評価試験を実施しております。
ガスアプリケーション分野においては、ニュージャージー州の本社を拠点として、食品産業分野の顧客を中心にガス利用提案を行っております。液体窒素を大量に使用する食品冷凍技術に加え、当連結会計年度は食品包装混合装置の開発に注力し、新規顧客を獲得致しました。また、炭酸事業強化の一環として、廃水中和処理システムという新たなアプリケーションを開発し上市致しました。
外部リソースとの積極的な協業を推進するオープンイノベーション施策においては、米国ベンチャー企業のSulfaTrap LLCと連携し、天然ガス精製関連の顧客へ超微量硫黄分を除去可能な精製剤を販売し、ガス事業とのシナジー創造を推進しております。
これらの研究開発施策により、米国市場で更なる当社グループのプレゼンスを向上させてまいります。

〔サーモス他事業〕
サーモス株式会社は、独自の断熱技術とユニークな生活快適発想を柔軟に組合せた夢のあるライフスタイルの創造を目指し、積極的な商品開発を推進しております。
ケータイマグのモーションカテゴリーでは、これまでの軽量・コンパクト、ワンタッチオープンせんに加えて、シールプレートを用いたオリジナルボトル化によりお客様が自分だけのマイボトルを楽しんでいただける商品を開発致しました。
お弁当カテゴリーでは、新たなライフスタイルの提案として朝お出かけ前に炊飯器代わりに電子レンジ加熱するだけでお昼には温かいごはんが炊けている弁当箱を開発致しました。
キッチンウェアカテゴリーでは、これまでの真空保温調理器シャトルシェフの調理鍋の内面を3層フッ素コーティングにすることで、こびりつきにくく使いやすいうえに、お手入れも楽にした商品を開発致しました。
alfiブランドにおきましては、ガラス製真空瓶からステンレス製真空瓶への切り替えを進め、alfiの洗練されたデザインと、落としても割れない、氷が入れられるなど機能上の進化を併せ持つ商品を開発致しました。
これら数多くの商品投入を図った結果、当連結会計年度に投入した新商品は71機種となります。
このように積極的な新商品投入を続けることにより、サーモスブランドは「新しいライフスタイルやそれを可能にする商品を提案するブランド」として、市場やエンドユーザーから高い評価を受けています。

(注) 上記の金額に、消費税等は含まれておりません。


事業等のリスク株式の総数等


このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E00783] S100D6L5)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
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