レーザーテック株式会社 研究開発活動 (2019年6月期)

当社グループの技術は、光応用技術をコアに、エレクトロニクス、精密機構、及び画像処理などの周辺技術を高いレベルで融合させたオプトメカトロニクスと呼ばれる複合技術であり、代表的な製品である半導体マスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置、レーザー顕微鏡、及びFPDフォトマスク欠陥検査装置ほか、すべての製品開発に活用されております。
新しい製品の開発にあたっては、顕微鏡の営業活動などを通じて幅広い業界、市場を調査し、新しいマーケットやアプリケーションを探し出し、それぞれ固有のニーズに合致した新製品を生み出すことを心がけております。
また既に製品を納入している多くのお客様や各種研究開発機関へのサービス・サポートを通じて、お客様の顕在化した要望のみならず、潜在的なニーズを正確につかみ、独創的な視点と技術でどこよりも早く問題解決の方法をご提供することが最重要であると考えております。
当社グループは、光学技術を追求する過程で、独自のコア技術を確立してまいりました。共焦点光学系、DUV(注)光学系、EUV(注)光学系、及び光干渉計技術などの光学技術を進化させ、高度な周辺技術との融合によって特徴ある製品を生み出しています。また、高精度高速ステージ開発のための精密機構技術、あるいは欠陥検出の画像処理技術などを継続的に深化させ、近年ではAI(人工知能)技術を応用した自動欠陥分類の開発を進めるなど、お客様のニーズに対してタイムリーにソリューションを提供できる研究・製品開発を進めております。
(注) DUV:Deep Ultraviolet、遠紫外線
EUV:Extreme Ultraviolet、極端紫外線

当連結会計年度における研究開発の成果として発売された新製品は次のとおりであります。

「マスクブランクス(注)欠陥検査/レビュー装置 MAGICSシリーズ M9650/M9651」
当社のマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置 MAGICSシリーズは、長年にわたり高い評価と信頼をいただき、業界標準機としてマスクブランクスメーカーでの出荷検査及びマスクショップでの受け入れ検査やプロセス管理で活用されております。近年、最先端の微細化プロセスに対応するため、マスク技術においてもEUVや新構造マスクの適用など様々な技術革新が行われており、これに伴いマスクブランクス検査もさらなる高性能・高機能化が必要となっています。
この様な次世代のニーズに対応するため、設計ルール5nm世代以降の最先端マスクブランクスをはじめとし、EUVマスクブランクスの母材となるサブストレート(注)などの微小欠陥を高感度で検出できる M9650/M9651を開発しました。最新機種であるM9650/M9651は、MAGICSの基幹技術をベースに検査光学系の刷新を行うと共に、当社マスクパターン検査装置で培った高速検査回路技術を採用し、微小欠陥の欠陥検出感度を大幅に向上させています。また、量産工場での出荷・受入検査に適した高いスループットを実現しています。
(注) マスクブランクス:パターニングされる前のフォトマスク製造用の基板
サブストレート:マスクブランクスを作る前のガラス基板

当連結会計年度の研究開発費の総額は、3,590百万円であります。
なお、当社グループの事業は、検査・測定機器の設計、製造、販売を行う単一のセグメントであるため、セグメントごとの記載は省略しております。