有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100G9Z0
株式会社ブイ・テクノロジー 研究開発活動 (2019年3月期)
当社グループは、FPDにかかわる検査・修正・製造、及び関連するプロセス技術にかかわる基幹要素技術及び次世代基礎技術開発の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、材料設計、制御システム設計技術、プロセス技術開発をベースに、業界をリードする技術を目指しております。
当社グループの研究開発は当社にて実施されており、技術部門とも綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。
当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能向上のための要素技術開発を目的に1,450百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。
FPD製造技術としては、FPD検査、マスク検査及びその描画にかかわる要素技術開発、OLED用蒸着マスク・蒸着装置とそのプロセス技術開発、レーザアニールにかかわる要素及びプロセス技術開発、基礎開発としてはμLEDディスプレイ技術等を行っております。
当社グループの研究開発は当社にて実施されており、技術部門とも綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。
当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能向上のための要素技術開発を目的に1,450百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。
FPD製造技術としては、FPD検査、マスク検査及びその描画にかかわる要素技術開発、OLED用蒸着マスク・蒸着装置とそのプロセス技術開発、レーザアニールにかかわる要素及びプロセス技術開発、基礎開発としてはμLEDディスプレイ技術等を行っております。
このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E02334] S100G9Z0)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
ご利用にあたっては、こちらもご覧ください。「ご利用規約」「どんぶり会計β版について」。
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