シェア: facebook でシェア twitter でシェア google+ でシェア

有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100G3N9

有価証券報告書抜粋 ジオマテック株式会社 研究開発活動 (2019年3月期)


事業等のリスクメニュー株式の総数等

(1) 研究開発活動の体制
当社の研究開発活動は、新製品及び要素技術の開発及び既存製品の改良・改善を技術部が中心となって活動し、また、製造設備の開発を技術部、施設部の2部門が密接に連携を取りながら担当しております。開発テーマの重要性に応じて上記2部門の他、営業部、マーケティング部を含めプロジェクトチームを編成し、効率的に新たな技術や製品開発に取り組んでおります。
また、各種研究機関、大学、企業とのプロジェクト、共同研究も技術部が中心となり推進しております。
(2) 研究開発活動の方針
当社は、「真空成膜技術」をコア技術とした事業による、企業価値の追求、社会への貢献を使命としております。そのために、研究開発部門はFPD、光学機器用部品関連を中心に、車載、エネルギーや薄膜デバイス関連の幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、真空成膜の前後工程を含めた要素技術開発並びに新製品の提供等を継続し続けることを基本方針としております。
(3)研究開発活動における当連結会計年度の主要課題
当社グループは、真空成膜関連製品等の製造、販売を行う単一セグメントであるため、品目別に記載しております。
(FPD用基板)
①静電容量タッチパネル(インセル方式)向け高抵抗導電膜の量産技術確立
②パターニング・リフトオフ加工の高精細化技術の開発
③メタルメッシュを適用した静電容量タッチパネル(アウトセル型)量産化技術確立
④ポリイミド上に形成する電子デバイス用固定膜(LLO膜)技術の確立
(その他)
①車載向け反射防止膜の量産化技術確立
②車載向け低反射透明導電膜の技術開発
③車載向け電磁波防止機能付きカバーパネル技術開発
④円筒内部を含めた異形品への成膜加工技術の開発
⑤低反射フィルム(g.moth)の生産技術確立
⑥異形材料のパターニング加工技術の開発
⑦赤外透過型面発熱ヒーターの開発
⑧高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発とその応用製品の開発
⑨高滑落性機能膜の開発とその応用製品の開発
⑩各種センサーデバイスの開発
⑪バイオ・メディカル機器向け製品開発
⑫静電容量型タッチスイッチの開発
⑬ヒーターの成膜及び周辺加工技術開発とその応用製品の開発
⑭ファンアウトレベルパッケージ用の微細回路形成材料(HRDP)の量産技術開発
⑮高出力レーザー向けレンズの開発
なお、当連結会計年度の研究開発費の総額は364百万円であります。

事業等のリスク株式の総数等


このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E02431] S100G3N9)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
ご利用にあたっては、こちらもご覧ください。「ご利用規約」「どんぶり会計β版について」。