株式会社昭和真空 研究開発活動 (2020年3月期)

当社グループは真空技術をベースに、メカトロニクス・薄膜形成技術等の先端技術により、特に情報通信分野に適合した新製品の開発に注力しております。
当社グループの研究開発は要素技術、装置開発、プロセス開発を技術開発部が担当しております。一部門で行うことで、要素開発・装置開発とプロセスを直結し、開発効率を上げ、市場要望に対応した開発を図っております。また、重点開発には、これら基盤技術並びに装置開発について、市場要請に迅速に対応するため、技術部門を中心としたメンバーから構成される社内横断的プロジェクト制を導入して、速やかに研究開発を推進しております。また、お客様からの問合せや依頼実験への対応力を強化するために相模原工場に新たに研究開発棟を建設しました。
2018年度から始めたインダストリー4.0による新サービス提供の為の取り組みは社内での運用を開始しました。
当連結会計年度における研究開発活動は次のとおりです。

水晶デバイス装置
スマートフォン等の高性能化に伴う水晶振動子の極小化に向けて、搬送・測定・調整ユニットの開発を進めています。又ウェハー状の周波数調整技術の開発を行い、既存の個片処理に比べてスループットの増大を実現します。
新方式による水晶膜厚計(COÅTLEADER)は、新たに有機EL用途の開発を行い2020年度中の販売を予定しています。

光学装置
スマートフォン等に搭載されているカメラモジュール等の光学部品分野における光学薄膜形成用真空蒸着装置におきまして、高品質の膜質を提供する蒸着装置として改良を加え、低価格のAR専用蒸着装置、量産型フィルター用光学蒸着装置を販売しております。
① 基板直接観測式光学モニターの装置展開
② RFイオンソースの着火性/メンテナンス性改善
③ 省力化・全自動化への挑戦(ロードロック式カルーセルスパッタ装置)

電子部品・その他装置
タブレット・スマートフォン等の移動体通信機器に用いられるSAWフィルター生産ラインの効率化を目指し、電極形成用蒸着装置、アッシング装置、周波数調整装置の開発も継続して進めています。生産ラインのひとつであるSiO2埋め込み用スパッタ装置は、全面見直しを行い引き続き開発を進めています。

当連結会計年度における研究開発費の総額は、372百万円となっております。