株式会社昭和真空 研究開発活動 (2021年3月期)

当社グループは真空技術をベースに、メカトロニクス・薄膜形成技術等の先端技術により、特に情報通信分野に適合した新製品の開発に注力しております。
相模原工場に新たに建設し2020年3月に運用を開始した研究開発棟において、真空技術を要するマーケット動向を踏まえた要素技術、プロセス、及び装置の開発を強化しております。また、お客様からの問い合わせに基づく依頼実験を多数、かつ迅速に行うため、研究開発用装置を新たに導入いたしました。これらの設備と蓄積してきた技術力を活かし、多くのお客様と共同開発に取り組み、着実に成果をあげております。
2018年に着手したIoTの要素を取り込んだ装置や設備の開発につきましては、遠隔監視や予兆保全を可能とするシステムを搭載した装置の販売を2021年度中に開始する予定です。また、AI技術の装置への応用に係る研究開発も開始いたしました。
当連結会計年度における研究開発活動は次のとおりです。

水晶デバイス装置
第5世代移動通信システムの普及に伴い水晶デバイスの需要は高まり、更なる小型化と高周波化そして個々のデバイスに対するトレーサビリティが求められています。これらに対応するため、新たな要素技術開発(機構、制御、測定)に取り組み、新型装置に搭載してまいります。
有機EL用途向けに開発を進めている新方式による水晶膜厚計(COÅTLEADER)は、2021年度中の販売開始を予定しています。

光学装置
スマートフォンに搭載されるカメラは高機能・高性能化が進んでおり、使用されるマイクロレンズに対しても高性能化が要求されています。お客様のニーズにマッチした高性能なマイクロレンズ用反射防止膜形成装置を開発するため、下記の技術開発を行っております。
① 基板直接観測式光学モニタの搭載
② RFイオンソースの信頼性向上と性能向上
③ 省力化・全自動化への挑戦(ロードロック式カルーセルスパッタ装置)

電子部品・その他装置
タブレット・スマートフォン等の移動体通信機器に用いられるSAWフィルター生産ラインの効率化を目指した電極形成用蒸着装置、アッシング装置、周波数調整装置の開発を継続しております。
また、さらなる電子部品の小型・高精度化などに伴い必要となる装置開発ニーズを、依頼実験などを通じて取り込み、量産用装置の開発販売につなげてまいります。

当連結会計年度における研究開発費の総額は、430百万円となっております。