有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100LLDO (EDINETへの外部リンク)
パルステック工業株式会社 研究開発活動 (2021年3月期)
当社は、「創意と工夫をもって新たな価値を創造し、社会の発展に貢献する。」を企業理念に掲げ、計測・評価・検査の領域において独自技術の研鑽とノウハウの蓄積に努め、顧客ニーズにマッチした新製品を開発することによって関連業界の発展に寄与してまいりました。
当社の研究開発を支える主要な技術は、電子技術、精密機械技術、ソフトウェアに加え、光ディスク分野で培った光波センシング技術であり、これらの要素技術を複合した製品開発を得意としております。
当社の研究開発活動は、テーマに応じて技術部又は事業推進室において担当しております。技術部は既存製品の改良開発やカタログ製品の後継機種の開発を担当し、事業推進室は新規事業に関連した製品開発を担当しております。
また、難易度の高い研究開発テーマや大規模な製品開発については、プロジェクトチームを編成して取組むこととしております。今後も、当社独自のカタログ製品の開発に加え、優良顧客からの要請に基づく受託開発や共同開発にも積極的に取組んでまいります。
当連結会計年度は、顧客からの要請による受託開発を中心に取組んだことから、研究開発費の総額は12百万円となりました。
なお、独自開発の主なテーマは次のとおりであります。
X線残留応力測定装置関連
・測定時間を短縮する次期X線残留応力測定装置の開発
当社の研究開発を支える主要な技術は、電子技術、精密機械技術、ソフトウェアに加え、光ディスク分野で培った光波センシング技術であり、これらの要素技術を複合した製品開発を得意としております。
当社の研究開発活動は、テーマに応じて技術部又は事業推進室において担当しております。技術部は既存製品の改良開発やカタログ製品の後継機種の開発を担当し、事業推進室は新規事業に関連した製品開発を担当しております。
また、難易度の高い研究開発テーマや大規模な製品開発については、プロジェクトチームを編成して取組むこととしております。今後も、当社独自のカタログ製品の開発に加え、優良顧客からの要請に基づく受託開発や共同開発にも積極的に取組んでまいります。
当連結会計年度は、顧客からの要請による受託開発を中心に取組んだことから、研究開発費の総額は12百万円となりました。
なお、独自開発の主なテーマは次のとおりであります。
X線残留応力測定装置関連
・測定時間を短縮する次期X線残留応力測定装置の開発
このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E02021] S100LLDO)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
ご利用にあたっては、こちらもご覧ください。「ご利用規約」「どんぶり会計β版について」。
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