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有価証券報告書 抜粋　ドキュメント番号: S100LTNA (EDINETへの外部リンク)

有価証券報告書抜粋 株式会社ソノコム 沿革 (2021年3月期)

提出会社の経営指標等メニュー事業の内容

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年月事項
1962年12月東京都足立区に岨野工業株式会社を設立し、漆塗料及び印刷用資材の製造販売を開始。
1963年1月プリント基板用スクリーン印刷の写真製版の製造販売を開始。
1970年12月漆製造部門を廃止。
1973年12月東京都目黒区に目黒工場を設置。
1973年12月厚膜集積回路製造用の高精度の製版を開始。
1974年6月部品実装用のコンビネーションメタルマスクの製造を開始。
1977年1月超高精度フォト自動製図機を導入。プリント基板のパターン作図を自動化。
1984年4月レーザープロッターを導入し、プリント基板及びハイブリッドIC用のフォトマスクの製造体制を強化。
1984年6月寸法精度の向上を意図し、リジダイズドワイヤーメッシュマスクを開発。
1985年1月業容の拡大に伴い足立工場、目黒工場をそれぞれ足立事業本部、目黒事業本部と組織変更。
1987年11月目黒事業本部の業容の拡大に伴い、目黒事業本部玉川スクリーン工場(現玉川工場)を設置。
1988年1月神奈川県川崎市高津区新築工場完成に伴い、目黒事業本部を移転し玉川事業本部を設置。
1988年3月本社及び開発部門(現技術開発本部)を東京都目黒区に移転。
1990年1月新製法によるファインパターン用メタルマスクを開発。
1990年4月商号を岨野工業株式会社から株式会社ソノコムに変更。
1991年2月当社独自開発による印刷機(SC150)の販売を開始。
1991年7月ファインパターン用スクリーンマスクとしてリジダイズドワイヤーメッシュマスクの精度を高め、販売を強化。
1994年2月日本証券業協会に株式を店頭登録。
1994年10月高品質・短納期に対応を目的にレーザー利用によるメタルマスク開発販売強化。
1996年8月プラズマ・ディスプレイ・パネル(以下PDPという。)用大型フォトマスク及び大型スクリーンマスクの製造販売を強化。
1998年10月PDP用大型高速高精細描画マシンLRS1700を導入。
1999年8月品質精度向上を目的に全事業所でISO9002の認証取得。
2001年8月千葉県松戸市に松戸事業本部(現松戸工場)を設置。
2004年12月日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場。
2005年4月販売体制強化と生産効率向上を目的に営業技術部を設立し、事業本部を工場に組織変更。
2005年6月松戸第2工場を新設。
2005年8月PDP用超大型フォトマスク描画装置FR8500LS(VIOLD)を導入。
2007年12月環境マネジメント国際規格ISO14001の認証取得。
2010年4月ジャスダック証券取引所と大阪証券取引所の合併に伴い、大阪証券取引所JASDAQに上場。
2013年7月東京証券取引所と大阪証券取引所の統合に伴い、東京証券取引所JASDAQ(スタンダード)に上場。
2013年8月足立工場を閉鎖し、玉川工場に統合。
2020年3月玉川工場の設備を増強し、高精度メタルマスクの生産能力を強化。
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このコンテンツは、EDINET閲覧（提出）サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E02428] S100LTNA)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート（以下、本レポート）です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
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