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有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100LT12 (EDINETへの外部リンク)

有価証券報告書抜粋 クラスターテクノロジー株式会社 沿革 (2021年3月期)


提出会社の経営指標等メニュー事業の内容


提出会社は、1969年株式会社安達新商店(現 安達新産業株式会社)の東大阪工場として複合成形材料の製造事業を開始いたしました。
その後、1991年に安達新産業株式会社の子会社として設立いたしました。
クラスターテクノロジー株式会社設立以後の経緯は、次のとおりであります。

年月事項

1991年4月

大阪市西区立売堀において安達新産業株式会社の子会社として、資本金5,000万円でクラスターテクノロジー株式会社を設立。
1992年10月茨城県久慈郡大子町に工場を建設し本社を移転。
1993年4月光磁気ディスクのピックアップデバイスの生産開始。
1996年4月安達新産業株式会社東大阪工場のマクロ及びマイクロの全事業を引き継ぐ。
1997年6月
大阪工場(現 関西工場 大阪府東大阪市)を新設し、複合材料から精密機器デバイス製造の一貫メーカーとして体制確立。
2000年4月大阪工場(現 関西工場)に本社移転、名称を本社・開発センターとしナノ・テクノロジー事業研究開発を開始。
2001年5月中小企業創造活動促進法研究認定。(2001年5月から2005年3月まで)
2001年7月経済産業省から補助金事業採択。(2001年7月から2005年3月まで6件)
2003年5月ナノ・テクノロジー事業の内、パルスインジェクター®装置の販売及び受託研究事業の開始。
2004年5月

ナノ・テクノロジー事業の内、微細加工部品の販売を開始。
ナノ・テクノロジー事業の内、機能性を付与した複合成形材料をベースとした精密成形品の販売を開始。
2006年4月
大阪証券取引所ヘラクレス市場(現 東京証券取引所JASDAQ(グロース))に上場。
東京営業所を開設。
2006年12月関東工場及び本社・開発センターの土地・建物を購入。
2007年2月パルスインジェクター®装置の本格的製品販売を開始。
2007年11月デジタルカメラ用機能性素子部品の増産に伴い、関東工場を増設。
2009年7月内閣総理大臣表彰 第3回ものづくり日本大賞「優秀賞」受賞。
2009年11月日刊工業新聞社主催 ものづくり連携大賞「特別賞」受賞。
2010年10月大阪証券取引所の統合によりJASDAQ(グロース)市場へ移行。
2013年7月大阪証券取引所と東京証券取引所の現物市場の統合に伴い、東京証券取引所JASDAQ(グロース)に株式上場。
2015年3月関西工場で、経済産業省の先端設備等投資促進事業費補助金を得て、熱硬化性複合材料の新製造設備を導入。
2016年4月東日本営業所を開設。(東京営業所を関東工場内に移転)
2018年11月新材料「コイル封止用低温硬化エポキシ成形材料(SR-03)」量産開始。
2021年4月会社設立30周年


提出会社の経営指標等事業の内容


このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E02483] S100LT12)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
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