アステナホールディングス株式会社 研究開発活動 (2021年11月期)

当社グループの当連結会計年度におけるセグメント別の主な研究開発活動は次のとおりであります。
なお、当連結会計年度における研究開発費の総額は964百万円であります。

(1) ファインケミカル事業
医薬品原料市場向けに、収益強化を目的に、新薬(治験薬)およびジェネリック医薬の原料・中間体について、自社得意技術を活かした自社製造品および受託品の研究開発を推進しております。また、食品添加物、化粧品原料等のライフサイエンス分野にも同様に力を入れております。
医薬品CDMO市場向けには、受託領域の拡充と顧客サービスの質の向上を目的に、バイオ医薬品関連技術等の研究開発に取り組んでおり、加えて、当連結会計年度にグループ会社化したJITSUBO株式会社の有する中分子原薬製造技術を顧客に提供すると共にその強化についても推進しております。
ファインケミカル事業に係る研究開発費は166百万円であります。

(2) 医薬事業
医薬事業では、外皮用剤(半固形剤や液剤)を中心とした研究開発を行っております。長年の経験と蓄積された技術を活かし、自社製造販売品のみならず、新薬(治験薬)に関わる共同開発や受託研究開発なども行っております。また、海外製薬企業との共同開発や導入・導出も積極的に検討しております。
医薬事業に係る研究開発費は430百万円であります。

(3) 化学品事業
表面処理薬品分野では、国内のみならずグローバル市場に向けた基礎研究から応用開発、そして顧客向け技術サービスを行っております。特に最先端半導体や微小電子部品市場向けでは、グローバルトップサプライヤーを目指し、最新の分析・解析装置およびパイロットラインを駆使した研究・開発を実践しております。プリント配線基板市場向けには、次世代高速通信デバイスに要求される表面処理システムを、トータルソリューションとして開発・提案しております。また、海外を含めた公的研究機関や大学との共同研究プログラムに参画し、次世代に求められる要素技術・新技術の確立を探求しております。
表面処理設備分野では、プリント配線基板市場向けの水平生産装置を中心とした、高付加価値装置の開発に注力しております。
化学品事業に係る研究開発費は367百万円であります。