株式会社昭和真空 研究開発活動 (2022年3月期)

当社グループは真空技術をベースに、メカトロニクス・薄膜形成技術等の先端技術により、特に情報通信分野に適合した新製品の開発に注力しております。
相模原工場に新たに建設し2020年3月に運用を開始した研究開発棟において、真空技術を要するマーケット動向を踏まえた要素技術、プロセス及び装置の開発を強化しております。また、お客様からの問い合わせに基づく依頼実験を多数、かつ迅速に行うため、研究開発用装置を新たに導入いたしました。これらの設備と蓄積してきた技術力を活かし、多くのお客様と共同開発に取り組み、着実に成果をあげております。
2018年に着手したIoTの要素を取り込んだ装置や設備の開発については、遠隔監視や予兆保全を可能とするシステムを2021年度から販売開始いたしました。また、光学用途向け制御システムを刷新しDX化時代に対応いたしました。
当連結会計年度における研究開発活動は次のとおりであります。

水晶デバイス装置
5G、IoT、DXといったデジタル化の波に伴い水晶デバイスの需要は依然として高まり、更なる極小化と高周波化そして個々のデバイスに対するトレーサビリティが求められています。これらに対応するため、新たな要素技術開発(機構、制御、測定)に取り組み、新型装置に対応してまいります。
また、AI技術を取り入れた制御技術開発にも継続して取り組んでまいります。

光学装置
スマートフォンに搭載されるカメラは高機能・高性能化が進んでおり、使用されるマイクロレンズに対しても高性能化が要求されています。お客様のニーズにマッチした高性能なマイクロレンズ用反射防止膜形成装置を開発するため、下記の技術開発を行っております。
① 新型イオンソース
② 新型光学式膜厚計
③ 省電化・省力化への挑戦(環境配慮型、ロボット化)

電子部品・その他装置
タブレット・スマートフォン等の移動体通信機器に用いられるSAW・BAWフィルター生産ラインの効率化を目指した電極形成用蒸着装置、アッシング装置、トリミング装置の開発を継続しております。また、さらなる電子部品の小型・高精度化などに伴う装置開発ニーズを、依頼実験などを通じて取り込み、量産用装置の開発販売につなげてまいります。

当連結会計年度における研究開発費の総額は、583百万円となっております。