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有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100OBR3 (EDINETへの外部リンク)

有価証券報告書抜粋 株式会社昭和真空 沿革 (2022年3月期)


提出会社の経営指標等メニュー事業の内容



年月事項
1958年8月真空ポンプ及び真空装置の製造及び販売を目的として、神奈川県川崎市中原区宮内688番地に昭和眞空機械株式会社(資本金50万円)を設立。
1960年3月水晶振動子用真空蒸着装置の第1号機完成。
1961年7月光学用真空蒸着装置の第1号機完成。
1971年12月本社・工場を神奈川県相模原市大野台二丁目27番2号に移転する。
1974年8月水晶振動子用周波数調整全自動真空蒸着装置「SC-6SA」を完成。
1975年9月営業部門を分離独立させ株式会社昭和眞空を神奈川県相模原市に設立。(出資比率50%)
1977年9月機械加工部門を分離独立させ昭和精工株式会社を神奈川県相模原市に設立。(出資比率 当社25%、株式会社昭和眞空25%)
1978年4月日本真空技術株式会社(現株式会社アルバック)と技術提携を主とした業務提携契約を結ぶ。
1978年6月効率的な組織運営を図るため、株式会社昭和眞空を吸収合併する。
1978年6月社名を昭和眞空機械株式会社より、株式会社昭和眞空に変更する。
1981年3月日本真空技術株式会社(現株式会社アルバック)より資本参加を受ける。(同社の当社に対する出資比率35.7%)
1981年6月大野台工場内にC棟(883.83㎡)を新築する。
1983年9月神奈川県相模原市上溝に上溝工場(739.35㎡)を新築する。
1984年11月水晶振動子周波数調整用真空蒸着装置「SFC-71M」が第1回神奈川工業技術開発大賞を受賞する。
1986年7月神奈川県相模原市大野台に大野台第二工場(2,534.25㎡)を新築する。
1994年11月ミニインライン方式高周波・高精度水晶調整装置「SRC-01」が第11回神奈川工業技術開発大賞奨励賞を受賞する。
1995年8月昭和精工株式会社を100%子会社化。
1995年12月水晶用ベース電極膜付用スパッタ装置「SPH-2500」を完成。
1996年5月MCF用インライン方式水晶周波数調整装置「SRM-2111C」を完成。
1997年2月社名を株式会社昭和眞空より、株式会社昭和真空に変更する。
1997年3月日本真空技術株式会社(現株式会社アルバック)との技術提携を主とした業務提携契約を解除し、新たに中華人民共和国における営業活動及び宣伝広告、展示会出展に関する業務契約を締結。
1997年4月韓国法人明成真空株式会社と水晶振動子周波数調整用真空蒸着装置「SC-6SAK」の製造に関する技術契約を締結。
1999年4月日本真空技術株式会社(現株式会社アルバック)と既存業務契約を解除し、新たに商標使用及び業務の相互協力に関する覚書を締結。
1999年11月事業の集中、効率化を図るため、昭和精工株式会社を吸収合併し、機械加工部新設。
1999年11月神奈川県相模原市に南橋本第一工場(602.73㎡)、南橋本第二工場(490.60㎡)を新設。
2000年5月神奈川県相模原市に新開工場(1,365.28㎡)を新設。
2000年12月神奈川県相模原市に小町工場(2,112.39㎡)を新設。
2000年12月日本証券業協会に株式を店頭上場。
2001年3月神奈川県相模原市に工場用地(21,489.09㎡)を購入。
2002年2月新開工場(1,365.28㎡)を閉鎖。
2002年3月南橋本第二工場(490.60㎡)を閉鎖。
2002年8月中国に昭和真空機械(上海)有限公司を設立。
2002年12月米国トランサット社より周波数調整装置に関する知的財産権を取得。
2003年8月中国に昭和真空機械貿易(上海)有限公司を設立。
2003年12月有機EL素子評価用蒸着装置「SEC-08C」を開発。
2004年3月神奈川県相模原市に相模原工場(工場2,033㎡、事務棟1,452㎡)を新築。






年月事項
2004年4月700千株の公募増資実施。(資本金21億36百万円)
2004年5月RF直接印加式光学用真空蒸着装置「SGC-1300R」を開発。
2004年6月南橋本第一工場(602.73㎡)及び小町工場(2,112.39㎡)を閉鎖。
2004年7月水晶デバイス電極膜形成用スパッタ装置「SPH-2710」を開発。
2004年10月神奈川県相模原市に株式会社SPTを設立。
2004年10月相模原工場にクリーンルーム棟(2,479㎡)を新築。
2004年12月日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダック証券取引所(現東京証券取引所スタンダード市場)に株式を上場。
2004年12月大野台第二工場に事務棟(831㎡)を新築。営業部門を移転。
2005年1月相模原工場に事務厚生棟及び研究開発棟(2,956㎡)を新築し本社を移転。
2006年1月超小型水晶デバイス用周波数調整装置「SFE-6430(バッチタイプ)」及び「SFE-X03W(インラインタイプ)」を開発。
2006年6月経済産業省から「明日の日本を支える元気なものづくり中小企業300社」の一社に認定される。
2006年8月株式会社エフ・イー・シーの全株式を取得し子会社化。
2007年5月上溝工場の機能を大野第一工場に移転し、大野台パーツセンターに名称変更。
2007年10月大阪府茨木市に西日本カスタマーサポートセンターを開設。
2008年4月設立50周年式典を東京ディズニーランドで開催。
2008年9月水晶ベース用スパッタリング装置「SPC-1000W」及びARスパッタリング装置「SPS-208CW」を開発。
2010年4月株式会社SPTを吸収合併。
2011年11月水晶デバイス用周波数調整装置が「九都県市のきらりと光る産業技術」を受賞。
2012年3月大野台第二工場・営業所を売却。営業部門は本社・相模原工場へ移転。
2012年10月LEDデバイス向け電極形成用スパッタリング装置「SPC-4515LD」を開発。
2014年2月富士見物件(土地・建物)を売却。
2014年11月水晶振動子用周波数調整装置「SFE-B03」が第31回神奈川工業技術開発大賞ビジネス賞を受賞。
2015年6月北陸サービスセンターを開設。
2016年6月光学薄膜用ALD装置「Genesis-AR Series」を開発。
2016年11月光学薄膜用スパッタリング装置「AXIS-Series」を開発。
2018年2月大野台パーツセンターを売却。
2018年10月東北サービスセンターを開設。
2018年12月経済産業省から「地域未来牽引企業」に選定される。
2020年2月相模原工場に研究開発棟(1,486㎡)を新築。
2020年6月経済産業省より「グローバルニッチトップ企業100選」に認定される


提出会社の経営指標等事業の内容


このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E01719] S100OBR3)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
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