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有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100R3EQ (EDINETへの外部リンク)

有価証券報告書抜粋 株式会社昭和真空 研究開発活動 (2023年3月期)


事業等のリスクメニュー株式の総数等


当社グループは真空技術をベースに、メカトロニクス・薄膜形成技術等の先端技術により、特に情報通信分野に適合した新製品の開発に注力するとともに、真空技術を要するマーケット動向を踏まえた要素技術、プロセス及び装置の開発を強化しております。また、お客様からの問い合わせに基づく依頼実験を多数、かつ迅速に行うため、研究開発用装置を新たに導入いたしました。これらの設備と蓄積してきた技術力を活かし、多くのお客様と共同開発に取り組み、着実に成果をあげております。
2018年より、大学と共同研究開発に取り組んでまいりましたホール加速型イオンソースが完成し、2022年度から販売を開始いたしました。本イオンソースは、従来型に比べてコンパクトで高出力、かつグリッドレスにより低コストを実現するとともに、使用時の廃棄物削減にも寄与する製品となっております。また、光学薄膜形成装置Sapioシリーズにおいては、従来比約60%の電力使用量で同数のデバイス生産が可能となる装置の販売を開始するなど、環境に配慮した製品開発にも取り組みました。
当連結会計年度における研究開発活動は次のとおりであります。

水晶デバイス装置
5G、IoT、DXといったデジタル化の波に伴い水晶デバイスの需要は依然として高まり、更なる極小化と高周波化そして個々のデバイスに対するトレーサビリティが求められています。これらに対応するため、従来とは異なるプロセス開発に取り組むとともに、新市場にも対応しております。
また、AI技術を取り入れた制御技術開発にも継続して取り組んでおります。

光学装置
メタバースに代表される仮想空間サービスの進展に伴い、スマートフォンやVR/AR機器に搭載されるオプトデバイスは高機能・高性能化が要求されています。お客様のニーズにマッチした高性能な光学薄膜形成装置を開発するため、新たな要素技術開発を行っております。
また、ホール加速型イオンソースを用いた、新たなプロセス開発にも取り組んでおります。

電子部品・その他装置
タブレット・スマートフォン等の移動体通信機器に用いられるSAW・BAWフィルター生産ラインの効率化を目指した電極形成用蒸着装置、アッシング装置、トリミング装置の開発を継続しております。
また、電子部品の更なる高性能化・高精度化などに伴う装置開発ニーズを、依頼実験などを通じて取り込み、量産用装置の開発販売につなげております。

当連結会計年度における研究開発費の総額は、531百万円となっております。

事業等のリスク株式の総数等


このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E01719] S100R3EQ)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
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