有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100R71J (EDINETへの外部リンク)
株式会社ブイ・テクノロジー 研究開発活動 (2023年3月期)
当社グループ(当社及び連結子会社)はFPD・半導体・PCBにかかわる検査・修正・製造及び関連する部材・プロセス技術の基幹要素技術及び次世代技術開発の研究開発活動を進めており、電子回路設計、光学設計、制御システム設計、真空技術開発、材料開発、プロセス技術開発をベースに、業界をリードする技術を目指しております。
当社グループの研究開発は主に当社にて実施しており、技術も綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。
当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能・信頼性向上、コスト低減のための要素技術開発を目的に2,289百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。
FPDパネル製造に関連する技術としては、FPD向け大型フォトマスク及び液晶/有機ELパネルの検査・修正・製造にかかわる要素及び技術開発、半導体・PCB製造に関連する技術としては、検査・計測・修正・露光にかかわる要素技術開発を行っております。
当社グループの研究開発は主に当社にて実施しており、技術も綿密に連携しながら研究開発効率の向上に努めております。また、新規テーマ探索等のために大学研究機関との積極的な交流も継続して進めております。
当連結会計年度における研究開発費は、新製品及び新機能の開発、既存製品の性能・信頼性向上、コスト低減のための要素技術開発を目的に2,289百万円となっております。また、研究開発活動の状況は、次のとおりであります。
FPDパネル製造に関連する技術としては、FPD向け大型フォトマスク及び液晶/有機ELパネルの検査・修正・製造にかかわる要素及び技術開発、半導体・PCB製造に関連する技術としては、検査・計測・修正・露光にかかわる要素技術開発を行っております。
このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E02334] S100R71J)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
ご利用にあたっては、こちらもご覧ください。「ご利用規約」「どんぶり会計β版について」。
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