有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100TN9Q (EDINETへの外部リンク)
芝浦メカトロニクス株式会社 研究開発活動 (2024年3月期)
当社グループは、要素技術から製品の開発まで、積極的な研究開発活動を行っております。
現在、研究開発は当社の研究開発部門と事業部の開発・設計部門及び連結子会社の技術部門が推進しております。当社グループの研究開発スタッフは約290名であります。
また、東芝グループ及びビジネスパートナーとの連携・協力関係を保ち、先進技術の研究開発と商品化を効率的に進めております。
当連結会計年度におけるグループ全体の研究開発費は3,473百万円であります。この中には、各セグメントに配分できない全社共通の要素技術開発費1,154百万円が含まれております。
各セグメント別の研究成果、研究開発費は次のとおりであります。
(1)ファインメカトロニクス
半導体製造装置では、枚葉式窒化膜ウェットエッチング装置、ウェーハ洗浄装置、ケミカルドライエッチング装置、マスク用ウェット洗浄装置及びマスク用ドライエッチング装置の開発等をあげることができます。フラットパネル製造装置では、高精細・中小型パネル対応のウェットプロセス装置及びフレキシブルOLED向け真空焼成炉の開発等をあげることができます。
研究開発費は1,383百万円であります。
(2)メカトロニクスシステム
半導体組立装置ではFO-WLP/PLP用、2.5Dパッケージ用、Micro LED用次世代高精度ボンディング装置の開発等を、液晶・OLEDモジュール組立装置では次世代ディスプレイ用OLB装置の開発をあげることができます。電子・真空機器分野では、電子部品向け対応スパッタリング装置の開発等をあげることができます。
研究開発費は785百万円であります。
(3)流通機器システム
券売機分野では、インボイス制度への対応機能追加とキャッシュレス決済に対応した機種構成拡充の開発をあげることができます。
研究開発費は150百万円であります。
現在、研究開発は当社の研究開発部門と事業部の開発・設計部門及び連結子会社の技術部門が推進しております。当社グループの研究開発スタッフは約290名であります。
また、東芝グループ及びビジネスパートナーとの連携・協力関係を保ち、先進技術の研究開発と商品化を効率的に進めております。
当連結会計年度におけるグループ全体の研究開発費は3,473百万円であります。この中には、各セグメントに配分できない全社共通の要素技術開発費1,154百万円が含まれております。
各セグメント別の研究成果、研究開発費は次のとおりであります。
(1)ファインメカトロニクス
半導体製造装置では、枚葉式窒化膜ウェットエッチング装置、ウェーハ洗浄装置、ケミカルドライエッチング装置、マスク用ウェット洗浄装置及びマスク用ドライエッチング装置の開発等をあげることができます。フラットパネル製造装置では、高精細・中小型パネル対応のウェットプロセス装置及びフレキシブルOLED向け真空焼成炉の開発等をあげることができます。
研究開発費は1,383百万円であります。
(2)メカトロニクスシステム
半導体組立装置ではFO-WLP/PLP用、2.5Dパッケージ用、Micro LED用次世代高精度ボンディング装置の開発等を、液晶・OLEDモジュール組立装置では次世代ディスプレイ用OLB装置の開発をあげることができます。電子・真空機器分野では、電子部品向け対応スパッタリング装置の開発等をあげることができます。
研究開発費は785百万円であります。
(3)流通機器システム
券売機分野では、インボイス制度への対応機能追加とキャッシュレス決済に対応した機種構成拡充の開発をあげることができます。
研究開発費は150百万円であります。
このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E01757] S100TN9Q)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
ご利用にあたっては、こちらもご覧ください。「ご利用規約」「どんぶり会計β版について」。
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