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有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100YD2Y (EDINETへの外部リンク)

有価証券報告書抜粋 TDK株式会社 研究開発活動 (2026年3月期)


事業等のリスクメニュー株式の総数等


(1) 研究開発活動

当社グループの研究開発活動は、AI(人工知能)をはじめ進化が加速するエレクトロニクス分野へ対応するため、継続的に新製品開発の強化拡大を進めており、GXとDXを支える最先端技術により、社会の変革に貢献するとともに、当社グループ自身の変革も続けてまいります。加えてマーケティング機能との連携を強化し、今後の成長が期待される製品の開発に注力しております。従来からのICT、自動車、産業機器・エネルギーの3市場に加えて、特にAIデータセンターなどAI技術を取り巻く幅広いマーケットを指す「AIエコシステム市場」に注目し、当社グループが強みとしているモノづくり力を最大限に活かした製品開発を行うことで、電子デバイスの高付加価値化、高機能化、省エネルギー化に貢献してまいります。
これらの注力する市場の変化を捉えた技術戦略を基に、今後の成長が大いに期待されるセンサ・アクチュエータ、次世代電子部品を戦略成長製品と位置づけて、独自の材料・プロセス・ソフトウェアを組み合わせた電子デバイスで、テクノロジーの進化と社会の変革を加速し、サステナブルな未来の実現に貢献することを目指しております。
受動部品事業分野では、コア技術を活かした次世代積層セラミックチップコンデンサやインダクタ製品並びにEMC対策部品などの小型化、高性能化を進めております。また、高周波化が進むモジュール製品に適した部品の開発も強化しております。次世代電子部品としては、薄膜技術、材料技術、Roll to Roll 技術などを融合させ、多様化する市場のニーズに応える高付加価値製品開発を推進しております。
センサ応用製品事業分野では、センサ素子の高性能化に加えて、さまざまなアプリケーションに対応するセンサソリューションを提供するために、センサシステム、ソフトウェアの開発を進めております。
磁気応用製品事業分野では、次世代高記録密度ヘッドの開発を強化しております。高性能希土類磁石においては、地政学的リスクを考慮し、希土類元素使用量の削減に向けた開発を行っております。
エナジー応用製品事業分野では、次世代リチウム電池材料の開発や、省エネルギーが訴求される社会情勢に適した高効率電源の開発にも注力し、二酸化炭素排出量の削減も進めております。
本社研究開発機能では、それぞれの市場分野に対応した専門性の高い技術者たちが自由な発想で研究開発を展開できるように、日本、北米、欧州、アジアの4極に開発拠点を置き、戦略成長製品の開発に注力しています。また、First to marketの考えのもと、各地域の最先端企業や研究開発機関との連携による製品開発を展開しております。特に、センサはAIの活用に伴うデータ社会の拡大には欠かせない重要なデバイスであり、その実現に必要な技術資産を有する企業との協業も視野に入れながら、革新的な次世代製品創出、新しいプラットフォームの提供を目指してまいります。その取り組みの例として、センサ等のハードウェアとソフトウェアを組み合わせたエッジAIソリューション、スマートグラス向けコアデバイスの事業化を行っております。特に、次世代ICTデバイスとして期待するスマートグラス向けソリューションの事業部を新設し、視線意図検出のアルゴリズムと関連デバイスの製品化や、超小型・高解像度のフルカラーレーザーモジュールの開発を加速していきます。一方で、連続的な進化を実現するために、全社共通の基盤技術である材料技術、プロセス技術、製品設計技術、生産技術、評価・シミュレーション技術に磨きをかけ、中長期における全社開発テーマを加速する様に支援しています。
今年度の研究成果として、電子工学と磁性材料を組み合わせたスピントロニクスの現象を利用して高速な光検知ができる、超小型のスピンフォトディテクタを開発し、学校法人日本大学と共同で動作実証に成功しました。生成AIの性能向上を実現させるために不可欠となるAIデータセンター向け光電融合デバイスやスマートグラスへの応用が期待されています。また、大規模な演算処理を必要としない高速・軽量なリアルタイム学習機能を特徴とする、小脳を模したアナログリザバーAIチップを国立大学法人北海道大学と共同で開発しました。この成果と加速度センサを組み合わせたフィジカルAI向けエッジAIセンサシステムのデモにより、CEATEC AWARD2025イノベーション部門賞を受賞しました。
当社グループの研究開発活動において、優秀な人財の確保と人財育成、及び最先端技術の導入、そして当社グループが保有していない技術については国内のみならず海外の公的機関、大学、研究機関との産学官アライアンスを積極的に進めております。特に、国立大学法人東京科学大学や国立大学法人秋田大学とは、独自性の高い共同研究や組織的連携を進めております。
なお、当連結会計年度の研究開発費は、前連結会計年度比14.2%増の289,668百万円(売上高比11.6%)であります。


(2) 知的財産活動

当社グループは、知財戦略と事業戦略のアライメントを重視し、知財活動を展開しています。経済産業省が発表した「価値協創ガイダンス2.0」に基づき、知的財産を「企業固有の価値創造ストーリー」の中で位置づけ、知財投資が事業競争力の強化と成長にどのように結びつくかを明確化することに注力しています。
当社グループは、「材料技術」「プロセス技術」「評価・シミュレーション技術」「製品設計技術」「生産技術」を5つのコアテクノロジーとして定義しています。これらの技術特性に応じて、特許による権利化とノウハウによる秘匿化を戦略的に使い分けることで、競争優位性を確保しています。特に、知的財産に関連する情報を収集・分析し、これらの情報を事業戦略の重要な素材として利用するIPインテリジェンスを強化し、IPランドスケープの活用を推進しています。
当社グループでは、「Empowerment & Transparency(権限委譲と透明性の確保)」をガバナンス方針とし、本社の知的財産権センターがハブとなりつつ、各拠点の独自性を尊重した知財活動を推進しています。各地域の市場特性や技術動向に最適化された活動を自律的に実践することで、事業の変化に即応した知財戦略を実現しています。このようなグローバルな知財ネットワークの強化を通じて、当社グループの持つ多様性を成長に結びつけています。
当社グループはまた、知的財産権の侵害に対して、司法手続を含む適切な措置を講じることにより、事業を保護しています。このような知財活動を通じて当社グループは事業競争力を維持・向上させ、持続的な成長を実現しています。

事業等のリスク株式の総数等


このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E01780] S100YD2Y)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
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