有価証券報告書 抜粋 ドキュメント番号: S100VHN4 (EDINETへの外部リンク)
株式会社ジェイ・イー・ティ 研究開発活動 (2024年12月期)
当社グループでは、薬液による洗浄をコア技術として、様々な薬液の濃度、温度、流量、沸騰、乾燥など、多様な技術を融合・展開させるなどの基礎研究から、バッチ式及び枚葉式洗浄装置の製品開発に至るまで積極的な研究開発活動に取り組んでおります。
当連結会計年度は、半導体洗浄装置を中心とした既存事業の拡大・強化に向けた開発投資を行うとともに、新たな乾燥技術の開発を行うべくデモ装置の検討、加えてバッチ式洗浄装置BW3500及び新型枚葉式洗浄装置の開発を進め、総額で629百万円の研究開発費を投入しました。
なお、当社グループの主な研究開発成果は次のとおりであります。
半導体製造技術における基礎研究においては、新たな乾燥技術の開発を行う為のデモ装置の検討、半導体洗浄装置においては、バッチ式洗浄装置であるBW3500を開発・製造し、上市しました。枚葉式洗浄装置では、HTS-300において新たな薬液に対応したプロセス評価を実施し、新型枚葉式洗浄装置の開発・製造に取り組みました。
当連結会計年度は、半導体洗浄装置を中心とした既存事業の拡大・強化に向けた開発投資を行うとともに、新たな乾燥技術の開発を行うべくデモ装置の検討、加えてバッチ式洗浄装置BW3500及び新型枚葉式洗浄装置の開発を進め、総額で629百万円の研究開発費を投入しました。
なお、当社グループの主な研究開発成果は次のとおりであります。
半導体製造技術における基礎研究においては、新たな乾燥技術の開発を行う為のデモ装置の検討、半導体洗浄装置においては、バッチ式洗浄装置であるBW3500を開発・製造し、上市しました。枚葉式洗浄装置では、HTS-300において新たな薬液に対応したプロセス評価を実施し、新型枚葉式洗浄装置の開発・製造に取り組みました。
このコンテンツは、EDINET閲覧(提出)サイトに掲載された有価証券報告書(文書番号: [E36545] S100VHN4)をもとにシーフル株式会社によって作成された抜粋レポート(以下、本レポート)です。有価証券報告書から該当の情報を取得し、小さい画面の端末でも見られるようソフトウェアで機械的に情報の見栄えを調整しています。ソフトウェアに不具合等がないことを保証しておらず、一部図や表が崩れたり、文字が欠落して表示される場合があります。また、本レポートは、会計の学習に役立つ情報を提供することを目的とするもので、投資活動等を勧誘又は誘引するものではなく、投資等に関するいかなる助言も提供しません。本レポートを投資等の意思決定の目的で使用することは適切ではありません。本レポートを利用して生じたいかなる損害に関しても、弊社は一切の責任を負いません。
ご利用にあたっては、こちらもご覧ください。「ご利用規約」「どんぶり会計β版について」。
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