テクセンドフォトマスク株式会社 沿革 (2026年3月期)

当社の前身は、凸版印刷株式会社グループ(以下「TOPPANグループ」という。)のフォトマスク事業及びそれに付随又は関連する事業となります。
2020年代に入り、半導体市場の急速な成長によってフォトマスクの市場は新たな局面を迎え、事業の継続的な拡大・成長のためには、市場環境の変化や顧客動向を見極めながら、これまで以上に迅速かつ柔軟な研究開発投資と設備投資が求められるようになりました。
こうした中、TOPPANグループはフォトマスク事業及びそれに付随又は関連する事業については独立した企業体として経営の自由度を高めることによって、半導体市場のニーズを捉えた投資をスピーディーに実行し、より一層の成長と競争力の強化を実現・継続していくことが、当事業の価値向上に資するとの判断に至りました。
その結果、当社は2021年12月13日に、TOPPANグループのフォトマスク事業及びそれに付随又は関連する事業の承継会社として設立され、2022年4月1日に権利義務を承継する吸収分割に合わせ、株式会社トッパンフォトマスクとして事業を開始しました。また、2024年11月1日に商号をテクセンドフォトマスク株式会社へ変更し、2025年10月16日に東京証券取引所プライム市場に上場いたしました。

(当社設立前)

年月	概要
1961年	シリコントランジスタ製造用フォトマスクの試作成功
1968年3月	朝霞工場精密部品棟にクリーンルームが完成 シリコントランジスタマスクの量産を開始
1970年9月	滋賀精密工場竣工
1974年12月	朝霞精密電子第一工場竣工 最新鋭設備と高性能クリーンルームを完備
1986年2月	朝霞精密電子第二工場竣工
1997年3月	中華映管股份有限公司、揚博科技股份有限公司と合弁で、中華凸版電子股份有限公司(現 中華科盛德光罩股份有限公司)を設立
1998年8月	滋賀工場でフォトマスク新棟竣工
2003年2月	朝霞第三工場竣工
2005年4月	DuPont Photomasks, Inc.の株式取得に関する手続き完了。Toppan Photomasks, Inc.(現 Tekscend Photomask US Inc.)が始動
2014年5月	中国科学院上海微系統与信息技術研究所が保有する上海凸版光掩模有限公司(現上海徐匯科盛徳半導体有限公司)の持分28.5%を買取り、完全子会社化
2015年3月	中華映管股份有限公司が保有する中華凸版電子股份有限公司(現中華科盛德光罩股份有限公司)の株式を取得し、子会社化
2015年4月	上海凸版光掩模有限公司が新工場を建設 製造ラインを拡充しフォトマスクの生産能力を増強
2019年8月	Toppan Photomasks Round Rock, Inc.(現Tekscend Photomask Round Rock Inc.)を設立 GlobalFoundriesの内製マスクライン生産設備を購入、移設し、米国内のGlobalFoundriesウェハ工場向けにフォトマスクを供給

(当社設立後)

年月	概要
2022年4月	株式会社トッパンフォトマスクが凸版印刷株式会社よりフォトマスク事業を承継 当社株式の49.9%を凸版印刷株式会社からインテグラルグループが取得
2023年7月	本社を汐留シティセンターに移転
2024年11月	商号をテクセンドフォトマスク株式会社に変更
2025年10月	東京証券取引所プライム市場に上場